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向飞 , 刘颖 , 朱时珍
人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.015
综述了铁电薄膜/半导体异质结构研究近年来的新进展.重点介绍了异质结构制备工艺的改进和界面的最新研究状况.简单叙述了全钙钛矿异质结构的发展情况.指出了铁电薄膜/半导体异质结构研究领域需要解决的一些问题.
关键词: 铁电薄膜 , 异质结构 , 缓冲层 , 界面 , 全钙钛矿
