祝晓亮
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孙玉利
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左敦稳
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周亮
硅酸盐通报
通过四因素三水平正交实验,对微米级冰冻固结磨料抛光微晶玻璃的工艺进行了研究.采用单位时间试样厚度变化表征抛光速度,以平均粗糙度表征抛光质量.获得了以优化抛光质量为目的的工艺参数:抛光压力:0.05 MPa;主轴转速:200 r/min;偏心距:105 mm;抛光时间:60 min.在该条件下获得了表面平均粗糙度为2.86 nm的超光滑表面,并且抛光速率为12.35 nm/min,并对抛光因素对表面质量和抛光速度的影响趋势进行了分析.
关键词:
冰冻固结磨料抛光盘
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微晶玻璃
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正交试验
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工艺
