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表面处理细化取向硅钢磁畴的方法与机理

朱业超 , 王良芳 , 乔学亮

钢铁研究 doi:10.3969/j.issn.1001-1447.2006.06.013

磁畴细化技术是降低取向硅钢铁损重要的方法之一.本文概述了国内外表面处理使磁畴细化的方法,这些方法使磁畴细化的机理,以及细化磁畴可降低铁损的机理.

关键词: 取向硅钢 , 磁畴细化 , 刻痕 , 张应力

取向硅钢激光刻痕对绝缘层的影响及刻痕耐热性分析

李海蛟 , 杨平 , 蒋奇武 , 金文旭 , 毛卫民

材料热处理学报

研究了不同输入电流下激光刻痕对取向硅钢表面绝缘涂层的影响,分析了刻痕宽度、刻痕深度和磁性能随电流的变化规律及刻痕对绝缘涂层的破坏程度,并对刻痕后的取向硅钢样品进行退火,研究刻痕后磁畴粗化规律,对激光刻痕的耐热性进行分析.结果表明:随着电流的增大,刻痕的宽度和深度增大,刻痕对绝缘涂层的损伤严重.激光刻痕样品在500℃以上的温度下进行去应力退火,磁畴开始粗化,铁损较刻痕后升高.确定了磁畴粗化定量关系.随着退火温度升高,磁畴宽度增大,铁损升高的幅度增大.

关键词: 取向硅钢 , 刻痕 , 绝缘涂层 , 耐热性

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