戴伟涛
,
吕冰海
,
翁海舟
,
邵琦
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.02.030
目的：获得声波辅助剪切增稠抛光方法抛光轴承钢圆柱表面的最佳工艺参数。方法应用田口法，对声波辅助剪切增稠抛光过程中影响工件材料去除率，以及表面粗糙度的声波频率、声波功率、声波波形等参数进行实验与优化分析，以材料去除率、表面粗糙度为评价条件，得到最优抛光参数，并在最优参数条件下做多组重复性实验以验证结果的可靠性。利用金相显微镜、光学轮廓仪等测试手段对加工后的工件进行表面形貌检测。结果以材料去除率为评价指标，声波频率影响最为显著，声波功率影响次之，声波波形影响最小；以表面粗糙度为评价指标时，声波波形影响最为显著，声波频率影响次之，声波功率影响最小。结论在声波频率为20 Hz、声波功率为25 W、正弦波形条件下，工件材料去除率最高，材料去除率达到了11.32μm/h；在声波频率为60 Hz、声波功率25 W、正弦波形条件下，工件表面质量最佳，抛光1 h后工件平均表面粗糙度Ra由100 nm下降至7 nm以内，最低达到了4.48 nm。
关键词:
声波辅助
,
剪切增稠抛光
,
田口法
,
圆柱表面
,
频率
,
功率
,
波形
马海斌
,
孙自杰
冶金分析
doi:10.13228/j.b0yuan.issn1000-7571.009669
为更好的理解困扰电感耦合等离子质谱仪(ICP-MS)分析灵敏度提高的基质干扰问题,利用激光诱导荧光技术,考察了钡离子和钙离子在ICP-MS取样锥后的质量控制传递行为.通过比较分析离子在取样锥孔口及后端的径向分布,探讨了ICP功率、雾化气流速及基质干扰对取样锥后分析离子空间分布的影响.结果表明:取样锥孔口钙离子与钡离子分布类似,但取样锥后扩散状况与其相对原子质量有关,相对原子质量小的元素径向扩散更快,因此仪器检测灵敏度较低;雾化气流速越大,分析离子的传递效率越低,因此更高的进样速率在ICP-MS应用中不一定对应更高的检测灵敏度;分析离子径向分布及数量也受基质组分影响,基质干扰降低了取样锥后中心轴线上的分析离子数量,使其径向分布变得更扁平,通过截取锥的概率更低,最终使得分析离子的信号降低.
关键词:
电感耦合等离子体质谱仪
,
取样锥
,
质量控制传递
,
功率
,
雾化气流速
,
基质干扰
姚学标
,
胡国光
,
尹平
功能材料
用精铁矿粉(Fe3O4)代替铁红(Fe2O3)制备功率软磁铁氧体是一项开拓价廉量富原材料的高技术和高效益应用的创新研究课题.本文介绍了其中因代替原材料的成分不同及含SiO2杂质量较高等引起的氧化物制备工艺中面临新的技术关键和难点所进行的实验研究.结果不仅在实验室中用Fe3O4代替Fe2O3和Mn3O4代替MnCO3研制出功率MnZn铁氧体样品,而且在现有的小型企业生产线上中试生产出合格的功率软磁铁氧体元件产品.
关键词:
精铁矿粉
,
代用
,
MnZn铁氧体
,
功率
,
制备工艺
李霞
,
陈凌翔
,
吕建国
,
叶志镇
材料科学与工程学报
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO∶Ga透明导电薄膜(GZO).通过X射线衍射(XRD)、四探针电导率测试、紫外可见分光光度等表征方法研究了溅射功率对薄膜结晶特性及光电性能的影响.结果表明:当溅射功率180W时制备的GZO薄膜光电性能最优,方块电阻为9.8Ω/sq,电阻率为8.6×10-4Ω·cm,霍尔迁移率为12.5 cm2/V·s,载流子浓度为5.8×1020 cm-3,可见光透过率超过92％.另外,研究了最优制备条件下的GZO薄膜的高温稳定性,在氩气、氧气和真空气氛下分别对薄膜进行退火处理.结果表明,氩气退火的薄膜电学性能显著提高,是显著改善GZO薄膜性能的有效方法之一;氧气退火不利于薄膜的导电性;真空退火介于两者之间.
关键词:
ZnO∶Ga
,
磁控溅射
,
电学性能
,
功率
,
退火
王乐勤
,
杜红霞
,
吴大转
,
戴维平
工程热物理学报
搅拌器被广泛应用于许多工业过程中.本文对三层桨式搅拌罐内的混合过程进行了三维数值模拟,采用多重参考系法(MRF)及标准κ-ε模型,分析了8种不同工况下的搅拌功率、罐壁和物料间传热系数分布情况,通过搅拌混合过程的非定常两相流计算得到搅拌过程的混合时间.结果表明,流动模拟可获得详细的流场分布及各项特性参数,计算结果可为工业搅拌过程提供工艺参考.
关键词:
数值模拟
,
搅拌罐
,
功率
,
传热
,
混合时间
