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泡沫基体上低磷化学镀镍工艺

张喜生 , 李华飞

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.02.007

探讨了泡沫基体上化学镀镍过程中,NiSO4、醋酸、次磷酸钠、加速剂(氨基酸类物质)的含量,温度及pH对镀层中磷含量的影响.得到了泡沫基体上化学镀镍最佳工艺条件:30 g/L NiSO4·6H2O,110 g/L醋酸,10 g/L次磷酸钠,4 g/L加速剂,pH 10,温度45 ℃.该工艺可获得磷含量为3%的镀层,镀液稳定性良好.

关键词: 聚氨酯泡沫 , 化学镀镍工艺 , 低磷 , 加速剂

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