李兴辉
,
冯进军
,
白国栋
,
丁明清
,
张甫权
,
廖复疆
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.05.005
在利用微细加工技术和双向薄膜沉积工艺制得的钼尖锥场致发射阵列阴极进行实用化的过程中,目前存在的两个主要障碍是,阴极发射电流密度低和工作不稳定.通过对阴极发射失效机理和失效阴极的SEM照片进行研究认为,导致电流密度较低的原因是由于尖锥阵列的不均匀性造成只有部分尖锥发射电子;引起发射不稳定的主要因素是由于尖锥表面的微凸起和毛刺以及它吸附的各种影响有效功函数的污染物.采用电阻限流技术提高了阵列发射的均匀性,同时通过阴极老炼技术增强了场发射的稳定性,使其电流发射密度有很大程度的提高,而且电流波动也大为减小.研究结果对于该阴极在射频功率和平板显示等器件上的应用有着重要的意义.
关键词:
场致发射阵列阴极
,
限流电阻
,
发射均匀性
,
老炼
,
发射稳定性
顾伟
,
雷威
,
张晓兵
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2006.04.008
分析了场发射显示器(FED)中玻璃基板在大气压力下的形变和应力与玻璃基板厚度的关系,得到基板形变和应力随着其厚度的减少而急剧增大.通过研究玻璃基板表面粗糙度及其形变对于器件内部场强及碳纳米管发射电流密度的影响,得出为了保证95 %以上的发射电流均匀度,低压型和高压型FED的阴极基板表面粗糙度均应在1 μm以内,而阳极基板最大形变分别不超过10 μm和40 μm.在上述研究的基础上,提出了双层基板结构,其引入改善了FED内表面的粗糙度,同时使得12.7 cm(5 in)以下尺寸的FED屏中取消了支撑.文中还讨论了对于大尺寸屏幕的支撑配置方法.分析结果表明,双层基板结构对于改善发射均匀性和优化支撑体配置具有良好效果.
关键词:
场发射显示器
,
双层基板
,
发射均匀性
,
支撑
