段春阳
,
王辉
,
李凡
,
张晓宏
影像科学与光化学
doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2015.02.108
硅纳米线阵列由于其较强的光吸收能力及硅材料的丰富储量,被认为是最具大规模应用潜力的可见光光催化剂.针对硅材料在水相环境中不稳定这一瓶颈问题,本文提出了对硅纳米线阵列“先稳定、再活化”的修饰策略.通过在硅纳米线表面修饰聚(乙撑二氧噻吩)使其稳定,之后再修饰银纳米颗粒以提高光催化效率,得到了高效、稳定的可见光光催化剂.并通过研究聚(乙撑二氧噻吩)的厚度及银纳米颗粒的担载量对光催化剂性能的影响,得到了最佳的修饰条件.
关键词:
硅纳米线阵列
,
银纳米颗粒
,
聚(乙撑二氧噻吩)
,
可见光光催化性能
郭丹
,
王苹
,
郑琪颖
,
王进
无机材料学报
doi:10.15541/jim20140069
采用一步水热法合成石墨烯复合花状钨酸铋高效可见光光催化剂.降解甲基橙的性能实验结果表明,与单纯的Bi2WO6相比,所有Bi2WO6-rGO复合光催化剂表现出更高的光催化性能.其中,Bi2WO6-rGO (0.5wt％)具有最高的光催化活性,其速率常数达到5.0×10-2 /min,是纯Bi2WO6的1.7倍.增强光催化性能的原因归结为以下两方面的协同作用:还原石墨烯在复合光催化剂中起到了电子快速传输作用;石墨烯提供了有利于吸附有机污染物的大比表面积.本研究可以为设计与合成高性能石墨烯基光催化剂提供新的思路.
关键词:
钨酸铋
,
石墨烯
,
石墨烯复合钨酸铋光催化剂
,
可见光光催化性能
宋佳
,
徐瑛
,
貊艳平
,
李永安
无机材料学报
doi:10.15541/jim20160345
助剂修饰是促进光生电子和空穴分离的有效途径.采用新型无定型Ti(IV)空穴助剂与高电子传输率的还原石墨烯(rGO)电子助剂相结合,以水热–浸渍沉积法合成Ti(IV)和rGO共修饰的高效片状钨酸铋(Ti(IV)-rGO/Bi2WO6)可见光光催化剂.结果表明,与单独Bi2WO6相比,助剂Ti(IV)或rGO修饰的Bi2WO6可见光光催化降解甲基橙(MO)性能增强.双助剂共修饰的Bi2WO6光催化剂光催化活性更高,当Ti(IV)含量为5wt%时,双助剂共修饰的Bi2WO6光催化剂性能最佳,光催化速率常数达2.2×10-2 min-1,是纯Bi2WO6的88倍.光催化性能增强主要归因于新型Ti(IV)空穴助剂与rGO电子助剂的协同作用,即Ti(IV)快速转移光生空穴,同时rGO快速传递并转移电子.本文有望为新型助剂修饰光催化材料研究提供新思路.
关键词:
钨酸铋
,
石墨烯
,
无定型Ti(IV)空穴助剂
,
可见光光催化性能
