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合成腐殖酸氧化还原能力与光学性质探究?

杨浈 , 姜杰

环境化学 doi:10.7524/j.issn.0254-6108.2015.06.2015032801

本文以合成商业腐殖酸Aldrich humic acids ( AHA)与国药化学试剂腐殖酸( TJHA)为研究对象,与铁氰化钾反应测定不同浓度AHA与TJHA还原前后氧化还原能力.研究发现,原态和还原态的HA均能向铁氰化钾传递电子,还原后两种HA的氧化还原能力均大于其原态的氧化还原能力.原态和还原态TJHA的单位碳电子转移数(原态1.49 meq·g C-1;还原态20.95 meq·g C-1)均大于 AHA(原态0.52 meq·g C-1;还原态1.75 meq·g C-1).同时随着HA浓度的增加,两种HA的原态与还原态单位碳电子转移数均逐渐降低( AHA:0.91—0.52 meq·g C-1;TJHA:13.57—1.49 meq·g C-1),而 AHA 单位体积电子转移数目逐渐增大(0.002—0.072 meq·L-1),TJHA单位体积电子转移能力无明显变化.这是由于在HA与铁氰化钾电子转移体系中,氧化还原能力的高低与腐殖酸中氧化还原官能团数量和分布有关,与HA粒径大小,分子质量也有关系.进一步通过E465,E4/E6值表明两种HA E465值与浓度呈明显正线性关系,E4/E6值与浓度呈对数增加趋势.三维荧光分析发现,HA还原后,激发/发射( Ex/Em)峰出现蓝移,相对荧光强度降低,说明HA还原的过程中有π—π?的断裂.进一步对HA 荧光测定发现TJHA中具有更多数量的氧化还原官能团而AHA中氧化还原官能团种类相对丰富.

关键词: 合成腐殖酸 , 氧化还原能力 , 光学性质 , 三维荧光

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