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空间用GaAs/Ge太阳电池器件工艺研究

陆剑峰 , 张忠卫 , 池卫英 , 王亮兴 , 陈鸣波 , 彭冬生

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.03.016

报道了对GaAs/Ge太阳电池器件工艺的研究结果.采用细栅厚电极正胶剥离技术制备细栅厚电极,栅线宽度小于15 μm,厚度在5 μm以上;采用NH4OH/H2O2选择性腐蚀液体系去除GaAs帽子层; 采用真空蒸发制备TiO2/SiO2双层减反射膜,电流密度增益可达25%以上;研制出平均效率达到19%(AM0,1 s,25 ℃)以上的GaAs/Ge太阳电池.

关键词: 太阳电池 , GaAs/Ge , 器件工艺

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