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李丽 , 吴卫 , 金永中 , 于越
表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.01.023
为了研究在磁控溅射工艺中溅射电流和溅射时间恒定的情况下,氩气工作压强的变化对钛膜在基底表面沉积的影响,通过用原子力显微镜分析钛膜的厚度和均方根粗糙度的方法来进行.结果表明:工作压强达到1.1Pa后, Ti膜的厚度及均方根粗糙度都随压强的增大而减小.由此说明,工作压强的变化对钛膜沉积有较大影响.
关键词: Ti膜 , 磁控溅射 , 工作压强 , 均方根粗糙度
