宇慧平
,
隋允康
,
张峰翊
,
常新安
,
安国平
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.032
本文采用紊流模型对提拉大直径单晶硅时,对晶体旋转、坩埚旋转及二者共同作用三种情况下,熔体内的流线、等温线、氧的浓度分布、紊流粘性系数、紊动能等作了数值模拟,发现晶体的旋转能提高氧的径向均匀性,紊流粘性系数和紊动能随着坩埚转速的提高先增加后下降.晶体坩埚同时旋转时并不能有效降低紊流粘性系数,但能使子午面上的流动受到抑制,等温线更为平坦,有利于晶体生长.
关键词:
直拉单晶硅
,
紊流模型
,
晶体旋转
,
坩埚旋转