赵时璐
,
张震
,
张钧
,
王建明
,
张正贵
金属学报
doi:10.11900/0412.1961.2015.00522
采用多弧离子镀技术, 使用Ti-Al-Zr合金靶及Cr单质靶的组合方式, 在W18Cr4V高速钢基体上制备TiAlZrCr/(Ti, Al, Zr, Cr)N四元梯度氮化物膜. 利用SEM和XRD分析梯度膜的微观组织和结构, 使用摩擦磨损试验机研究梯度膜在室温(15 ℃)和高温(500 ℃)下的耐磨损特性, 并采用SEM观察磨痕形貌. 结果表明, 在不同沉积偏压下制备的四元梯度膜均具有fcc-NaCl型的TiN结构, 其组织致密均匀, 呈典型的柱状晶形态. 梯度膜的摩擦磨损机理是以塑性变形为主要特征的黏着磨损, 并伴有轻微的磨粒磨损. 在室温和高温下磨损时的平均摩擦系数分别在0.25~0.30和0.30~0.35之间, 且当沉积偏压增加至-200 V时, 梯度膜的耐磨损性能实现最优化.
关键词:
TiAlZrCr/(Ti
,
Al
,
Zr
,
Cr)N梯度膜
,
多弧离子镀
,
偏压
,
显微结构
,
耐磨损性能
张跃飞
,
张广秋
,
王正铎
,
葛袁静
,
陈强
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.04.017
用电镀法制备凹印版材存在环境污染严重、成本高等缺点,为此研究用等离子体表面镀膜层替代电镀法制备凹印版材的新工艺.利用等离子体磁控溅射、多弧离子镀和离子束辅助沉积技术在镍基表面制备了硬质铬薄膜.研究表明,本法制备的薄膜表面致密均匀,中间有过渡层的离子束辅助沉积层表面显微硬度为800～1100 HV,磁控溅射的为300～400 HV,多弧离子镀的为600～800 HV,多弧离子镀和离子束辅助沉积层表面显微硬度接近于电镀法(700～1 100 HV).划痕试验表明,制备的薄膜与基体结合力均在5 N左右,凹版电子束辅助沉积铬后表面光滑,网点线条清晰,粗细均匀,可替代电镀法凹印版材.
关键词:
凹印版材
,
制备
,
等离子体
,
磁控溅射
,
多弧离子镀
,
离子束辅助沉积
,
耐磨层
李守英
,
李全安
,
戴景杰
,
庄蕾
电镀与涂饰
为改善纺织剪刀用W9Mo3Cr4V高速钢的表面性能，采用多弧离子镀技术对其进行镀TiN表面处理。以X射线衍射和扫描电镜对镀膜进行微观分析。在载荷500 kg、加载时间1 min的条件下，用摩擦磨损试验机测试了镀 TiN 薄膜前后W9Mo3Cr4V 钢的耐磨性。在3% NaCl 溶液中测试了W9Mo3Cr4V钢镀TiN薄膜前后的极化曲线。结果表明，镀TiN能明显提高W9Mo3Cr4V钢的抗磨损性能以及抗腐蚀性能。
关键词:
高速钢
,
氮化钛
,
薄膜
,
多弧离子镀
,
耐蚀性
,
耐磨性
折洁
,
张程煜
,
张贝贝
,
乔生儒
材料导报
采用真空多弧离子镀技术在X12CrMoWVNbN10-1-1耐热钢表面沉积Ti(CN)涂层,研究了涂层的组织和性能,并对涂层的抗热震和抗氧化性进行了研究.结果表明,采用适当的沉积温度、压力及N2流量,可以在X12CrMoWVNbN10-1-1耐热钢表面得到以Ti(CN)为主的致密涂层,在沉积温度400℃时,该涂层的最高硬度可达2438.7HV0.025,涂层在650℃以下具有良好的抗氧化性能,在700℃以下具有良好的抗热震性能.
关键词:
多弧离子镀
,
Ti(CN)涂层
,
抗氧化性
,
抗热震性
郑立允
,
赵立新
,
张京军
,
熊惟皓
稀有金属材料与工程
采用多弧离子镀技术在Ti(C,N)基金属陶瓷基体上沉积了TiN/TiAlN多层涂层,通过对不同速度、载荷下的微量摩擦磨损试验前后涂层金属陶瓷的显微形貌、组织、成分、相结构及粗糙度的观察分析,研究了涂层金属陶瓷的摩擦学性能.结果表明,TiN/TiAlN涂层金属陶瓷的平均摩擦系数均低于金属陶瓷基体本身的平均摩擦系数;在相同载荷下,滑动速度较低时,涂层金属陶瓷磨损表面粘着严重,有GCr15掉下的大块粘着物,随着滑动速度的增大,由严重粘着对磨偶件材料向少量粘着变化,其平均摩擦系数增大.在相同的滑动速度下,载荷较大时,TiN/TiAlN涂层金属陶瓷的平均摩擦系数较大.TiN/TiAlN涂层金属陶瓷的磨损机制主要是粘着磨损和磨粒磨损.
关键词:
金属陶瓷
,
多弧离子镀
,
多层涂层
,
摩擦学性能
曾鹏
,
胡社军
,
谢光荣
,
黄拿灿
,
吴起白
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2000.09.010
采用Ti/W复合靶用多弧离子镀技术沉积了(Ti,W)xN合金涂层,并对该涂层的组织与性能进行了研究.结果表明,涂层组织致密,孔隙率极低,主要结构为(Ti,W)2N,并具有较高的显微硬度和抗氧化性.在沉积过程中存在着多元合金涂层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关.
关键词:
多弧离子镀
,
(Ti,W)xN涂层
,
组织性能
,
成分离析
张焱
,
高原
,
吴炜钦
材料保护
单相CrN薄膜较难制取,国外已形成商用,而国内相关研究尚处于起步阶段.采用多弧离子镀技术在45钢表面沉积CrN薄膜,通过扫描电镜观察了CrN薄膜的表面形貌,采用X射线衍射仪对其相结构进行了分析,分别讨论了CrN薄膜在3.5％ NaCl溶液、1 mol/L NaOH溶液和1 mol/L H2SO4溶液中的电化学腐蚀性能,在其他制备参数不变的条件下,考察了氩氮流量比对薄膜组织结构以及性能的影响.结果表明:随着氩氮流量比的减小,CrN薄膜表面的液滴尺寸和数目逐渐减小;薄膜主要以CrN相为主,随着氩氮流量比的增大,CrN(110)的峰值逐渐减弱,CrN(200)的峰值逐渐增强;随着氩氮流量比的减小,CrN薄膜在3.5％NaCl溶液、1 mol/L NaOH溶液和1mol/L H2SO4溶液中的耐蚀性均得到提高,在氩氮流量比1:3时,薄膜的耐腐蚀性最佳.
关键词:
多弧离子镀
,
CrN薄膜
,
耐蚀性
,
氩氮流量比
,
45钢
成艳
,
蔡伟
,
李洪涛
,
郑玉峰
,
赵连城
功能材料
采用多弧离子镀的方法在Ti-50.6%(原子分数)Ni形状记忆合金表面沉积了钽镀层.通过X射线光电子能谱(XPS)剖面分析发现TiNi合金表面钽镀层厚度均匀,并且在镀层与基体之间形成一薄层过渡层.将镀钽TiNi合金曝露于空气中后,通过XPS的全谱和高分辨谱图对其表面的成分和价态分析发现,镀钽层表面由于钽在空气中自然氧化形成了一层很薄的钽的氧化膜,最表面为高价钽的氧化物(Ta2O5),次表面为低价钽氧化物的混合物TaO2、TaO和TaOx(x＜1).
关键词:
TiNi形状记忆合金
,
多弧离子镀
,
钽
,
镀层
刘野
,
黄美东
,
路少怀
,
吴功航
,
李洪玉
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2013.05.009
采用电弧离子镀的方法,在硅片上制备TiN仿金装饰膜层,主要研究氮气分压和基体偏压两个工艺参数对TiN薄膜色泽的影响.结果表明,氮气压强对TiN薄膜的色泽有明显的影响和控制作用.随着氮气分压的增大,薄膜的色泽由浅黄色向红棕色变化.实验发现,基体偏压对膜层的色泽也有一定的影响,当氮气分压一定时,施加偏压所得TiN薄膜比不施加的颜色更浅.可见,通过调节基体偏压和氮气流量,可以获得所需颜色的TiN薄膜.
关键词:
多弧离子镀
,
TiN薄膜
,
色泽
,
氮气分压
,
基体偏压
