路新
,
王述超
,
朱郎平
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何新波
,
郝俊杰
,
曲选辉
航空材料学报
doi:10.3969/j.issn.1005-5053.2011.4.001
采用水冷铜坩埚感应熔炼制备了名义成分为Ti-45Al-8.5Nb-0.2W-0.2B-0.02Y( at％)的大尺寸铸锭,经机械破碎后,采用流化床气流磨和射频等离子体球化工艺制备出高铌TiAl合金粉末,并研究了其特性.结果表明,采用上述工艺可大量制备出球形度高、粒度可控的高铌TiAl合金粉末；粉末的氧含量随粒度的细化而逐渐增加；高铌TiAl合金球形粉末的相组成主要为α2相及少量的β相；球形合金粉的表面和内部组织与粒度密切相关,平均粒度为90μm的粗粉表面及内部均呈枝状,颗粒内部存在网状富Al偏析相,随着粉末粒度减小,球形合金粉末表面趋于光滑,内部偏析逐渐减弱.此外,平均粒度为90μm肌的粗粉各颗粒间成分均匀,随着粉末粒度细化,颗粒间成分均匀性降低.
关键词:
高铌TiAl合金
,
球形粉末
,
射频等离子体
,
粉末特性
盛艳伟
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郭志猛
,
郝俊杰
,
邵慧萍
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王述超
稀有金属材料与工程
以不规则形状的大颗粒TiH2粉末为原料,采用射频等离子球化处理技术制备出微细球形Ti粉.采用扫描电子显微镜、X射线衍射和激光粒度分析测试方法对粉末形貌、物相和粒度进行测试.结果表明:大颗粒的TiH2粉末的脱氢分解、爆碎和球化处理在等离子体中一步完成,得到微细球形粉末.其相组成主要为Ti和残余TiH相;球形粉末在1.3×10-4 Pa真空条件下,经750℃、2h脱氢处理后得到单相球形Ti粉.颗粒平均粒径由原来的100～150μm减小至20～50μm,球化率可达到100％.随着加料速率的增加,粉末的球化率降低.采用射频等离子体处理TiH2粉是制备微细球形钛粉的一种新方法.
关键词:
射频等离子体
,
球形钛粉
,
脱氢分解
,
球化处理
齐海成
,
冯克成
,
杨思泽
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.03.015
为了得到类金刚石薄膜的性质和制备参数之间的对应关系,利用射频等离子体增强化学气相淀积在单晶硅的(100)面上制备了类金刚石薄膜,反应气体是甲烷和氢气的混合气.研究了射频源的输入功率对类金刚石薄膜性能的影响.采用Raman光谱、X射线光电子能谱、原子力显微镜和纳米压痕仪对薄膜的微观结构、表面形貌、硬度和弹性模量进行了研究,结果表明:制备的薄膜具有典型的不定型碳的结构特征、薄膜致密均匀,随着入射功率的提高,薄膜的sp3含量、硬度以及弹性模量先增加后减小,并且在100W时达到最大值,在400W时薄膜出现碳化.
关键词:
类金刚石
,
射频等离子体
,
化学气相淀积
,
X射线光电子能谱
王玉明
,
郝俊杰
,
盛艳伟
稀有金属材料与工程
以不规则形的钕铁硼粉为原料,使用射频等离子体球化处理工艺,制备球形钕铁硼粉.研究了原料的加料速率和粉末粒度对粉末球化率的影响.通过扫描电子显微镜观察对比了等离子球化处理前后粉末及截面形貌,采用X射线衍射方法测试分析了球化过程中氧化物的生成.检测了球化前后粉末的松装密度及其粒度分布.结果表明:不规则形状的钕铁硼粉经等离子球化处理后其球化率可达到100％,松装密度由2.778 g/cm3提高到3.785 g/cm3,粉末流动性由43.3 s/50 g提高到27.5 s/50 g.该粉末适用于凝胶注膜成型及注射成型.
关键词:
射频等离子体
,
钕铁硼粉
,
原料粉末
,
球化
盛艳伟
,
郝俊杰
,
郭志猛
,
邵慧萍
,
黄化
稀有金属材料与工程
通过射频等离子体球化处理工艺,以不规则形状钨粉为原料,制备了球形钨粉,并研究了加料速率和粉末粒度对粉末球化率的影响.采用扫描电子显微镜、X射线衍射和激光粒度分析仪对球化处理前后粉末的形貌、物相和粒度分布进行了测试和分析.结果表明:粒度在5.5～26.5 μm范围的不规则形状钨粉,经等离子球化处理后得到表面光滑、分散性好、球化率可达100％的球形钨粉.球化处理后,粉末的粒度略微增大.随加料速率的增加,钨粉的球化率降低.随着钨粉球化率的提高,粉末的松装密度和流动性得到显著改善.松装密度由6.80 g/cm3提高到11.5 g/cm3,粉末流动性由14.12 s/50 g提高为6.95 s/50 g.
关键词:
射频等离子体
,
球形钨粉
,
球化处理
,
球化率
陈慕华
,
储伟
,
张雄伟
催化学报
采用射频等离子体技术制备了α-Al2O3(MgO修饰)负载钯催化剂,以乙炔选择加氢为模型反应考察了制备方法、钯含量、助剂种类及反应温度对催化剂性能的影响. 结果表明,采用等离子体技术制备的催化剂具有催化活性及乙烯选择性高、操作简便和工艺流程短等优点,在50 ℃下反应时乙炔转化率可达100%,乙烯选择性可达71.3%,而且在反应20 h后催化剂样品仍保持有高活性. CeO2助剂的加入能改善催化剂的催化性能.
关键词:
钯系催化剂
,
助剂
,
射频等离子体
,
乙炔
,
选择加氢
,
乙烯
杜爱兵
,
刘旭光
,
许并社
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2005.04.002
在射频等离子体条件下以煤为原料制备纳米洋葱状富勒烯(Nano-structured Onion-like Fullerenes:NSOFs).高分辨透射电镜(HRTEM)和X射线衍射(XRD)表征结果表明:以煤为原料可大量制备NSOFs,纯度较高,无碳纳米管伴随生成,外观呈准球状或多面体状,内中空,直径分布较均匀,石墨化程度很高,为低成本合成纯净的NSOFs提供了一条新途径.
关键词:
纳米洋葱状富勒烯
,
射频等离子体
,
煤
,
HRTEM
李卫青
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.03.018
利用等离子体增强脉冲激光沉积系统,在n型Si(100)基底上沉积了不同沉积气压下的纳米BN薄膜,利用红外光谱(FTIR)对BN薄膜进行了表征.通过原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌.在超高真空(＜5.0×10-7 Pa)情况下测量了薄膜的场致发射特性.实验结果表明,沉积气压对BN薄膜的场发射特性影响很大.BN薄膜的阈值电场随着沉积气压的升高而升高,发射极限电流随着沉积气压的升高而较小,但耐压特性提高.沉积气压为2 Pa时沉积的BN薄膜的场发射的阈值电场最低,为12 V/μm,当电场升高到27 V/μm时,场发射电流密度为140.6 μA/cm2;当沉积气压升高到5 Pa时,阈值电场升高为26 V/μm,当电场升高到59 V/μm时,发射电流密度为187.5 μA/cm2;沉积气压升高到15 Pa时的样品的阈值电场已经高达51 V/μm.所有BN薄膜的F-N曲线都符合F-N理论,表明电子发射是通过隧穿表面势垒完成的.
关键词:
射频等离子体
,
氮化硼薄膜
,
场发射特性
,
阈值电场
