黄德华
,
郭永
,
胡双启
,
赵建国
,
晋春
,
李江
材料保护
双脉冲电镀制备的镀层性能优异,而目前双脉冲电镀非晶态Ni-P镀层鲜见报道.利用双脉冲电镀制备非晶态Ni-P合金镀层,研究了平均电流密度、正向占空比、温度、亚磷酸及柠檬酸钠浓度对镀层性能的影响.结果表明:随着平均电流密度增大,Ni-P镀层的沉积速率增加,腐蚀电位越来越负,镀层表面由平整致密变得有气孔和凸起,甚至起皮;正向占空比从30%增大至70%时,镀层的组织结构从完全非晶态转变为晶态,腐蚀电位越来越负,正向占空比为30%时,腐蚀电位最正,最不易被腐蚀;温度影响镀层的光亮度和平整度,70℃时镀层外观形貌最优,腐蚀电位最正;随亚磷酸浓度的增加,镀层外观形貌由平整致密变得有大量黑色条纹和起皮,为了得到外观形貌较好且腐蚀电位较正的镀层,亚磷酸浓度在20~30 g/L之间为宜;随柠檬酸钠浓度的增加,镀层沉积速率降低,腐蚀电位变正,不易被腐蚀.
关键词:
双脉冲电镀
,
非晶态Ni-P
,
平均电流密度
,
正向占空比
,
温度
,
亚磷酸
,
柠檬酸钠
王永光
,
赵永武
,
陈广
,
倪自丰
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2010.11.003
在硫酸镍15 g/L,钨酸钠30 g/L,柠檬酸35 g/L,烷基有机添加剂1.5 g/L,pH为7,温度65℃的条件下,研究了平均电流密度对脉冲镀镍钨合金镀层的外观、结合力、显微硬度、沉积速率,镀层中钨含量及表面微观形貌的影响.结果发现,随着平均电流密度的增大,镀层中钨含量增加,镀层硬度先增大而后趋于恒值.过高和过低的平均电流密度都会引起镀层缺陷,最佳的平均电流密度为5~8A/dm2.
关键词:
镍钨合金镀层
,
脉冲电镀
,
平均电流密度
,
显微硬度
,
微观形貌
王永光
,
赵永武
,
陈广
,
倪自丰
电镀与涂饰
在硫酸镍15 g/L,钨酸钠30g/L,柠檬酸35 g/L,烷基有机添加剂1.5 g/L,pH为7,温度65℃的条件下,研究了平均电流密度对脉冲镀镍钨合金镀层的外观、结合力、显微硬度、沉积速率、镀层中钨含量及表面微观形貌的影响.结果发现,随着平均电流密度的增大,镀层中钨含量增加,镀层硬度先增大而后趋于恒值.过高和过低的平均电流密度都会引起镀层缺陷,最佳的平均电流密度为5~8 A/d㎡.
关键词:
镍钨合金镀层
,
脉冲电镀
,
平均电流密度
,
显微硬度
,
微观形貌
龙慧
,
陈小华
,
易斌
,
曾斌
,
曾雄
,
刘云泉
材料保护
采用脉冲电镀法通过改变平均电流密度和占空比制备了Ni-P合金镀层,利用SEM观察了镀层的表面形貌,用螺旋测微仪测试了镀层的沉积速度,并通过盐水浸泡试验和极化曲线测量考察了镀层的耐蚀性能,以获得最佳的脉冲电镀参数。结果表明:平均电流密度为3A/dm^2、脉宽ton为2ms时,镀层沉积速率较好;占空比为1:5时镀层表面晶粒细化效果较好,表现出优异的耐腐蚀性能。
关键词:
Ni-P合金镀层
,
脉冲电镀
,
占空比
,
平均电流密度
,
表面形貌
,
耐蚀性能
徐金霞
,
蒋林华
,
刘大智
,
陈施英
,
冯文生
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2006.04.004
应用现代脉冲电镀技术,分别在钢和铜基体上电镀铁层,以期获得性能优良的镀层.研究了平均电流密度对铁镀层的沉积速度、外貌、显微硬度和显微结构的影响.结果显示:随着平均电流密度的增加,铁镀层外貌先变好后变差;脉冲电沉积速度加快,以16 A/dm2的沉积效率最高;不同条件下的镀层显微硬度呈近似的"正态分布"关系;铁镀层的显微结构为立方晶型,有明显的择优取向.
关键词:
脉冲电镀
,
平均电流密度
,
铁镀层
,
显微硬度
,
结合力
,
显微结构