刘道新
,
唐宾
,
潘俊德
,
何家文
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2000.10.003
采用加弧辉光离子渗金属新技术处理钛合金Ti5Al2.5Sn表面,研究了渗层的相组成特点,成分分布情况,评价了改性层的摩擦磨损性能,及与钛合金基体间的接触腐蚀相容性等.结果表明加弧辉光离子渗技术可以快速地在钛合金表面获得NiCr镀渗复合层,渗层由Ni3Ti等金属间化合物组成,其硬度、耐磨性能均高于离子注氮层,具有较高的抗含Cl-1水溶液腐蚀性能,在含Cl-1腐蚀环境中与钛合金基体接触相容.
关键词:
等离子表面合金化
,
辉光放电
,
弧光放电
,
钛合金
,
摩擦
,
磨损
,
腐蚀
胡常波
,
习小明
,
黄焯枢
,
湛中魁
材料导报
简要介绍了金属粉末微波烧结机理方面的研究进展以及微波辐射金属物体放电的问题,通过构建微波的磁场分量以光速去切割金属导线的"柱体电容"模型推证出弧光放电"临界长度"的存在,解释了一些实验现象并揭示了金属粉末微波烧结的可行性.
关键词:
微波
,
机理
,
金属导线
,
弧光放电
,
临界长度
王秋实
,
冯雅辉
,
谢永辉
,
钟敏
,
张丽娜
人工晶体学报
采用等离子体辅助直流弧光放电技术,以Si粉和SiO2粉为反应原料,制备了不同形貌的超细Si/SiOx纳米线和纳米花.通过X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、能量色散X射线光谱(EDS)对Si/SiOx纳米线的形貌和组分进行表征与分析.Si/SiOx纳米线紫外可见吸收光谱证实了样品的光学带隙为4.58 eV.Si/SiOx纳米线光致发光光谱(PL)表明其在305 nm、495 nm处有较强的发光峰,具有良好的发光性能.
关键词:
Si/SiOx纳米线
,
弧光放电
,
光致发光
