瞿全炎
,
曾德长
,
史新伟
,
刘正义
兵器材料科学与工程
doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2008.04.009
采用弯曲磁过滤真空阴极放电弧离子镀法制备高质量TiN薄膜.用场致发射电子扫描显微镜观察薄膜表面与截面形貌.分析弯曲磁过滤对膜表面质量与晶粒尺寸、膜基结合形态的影响.磁过滤能有效减少大颗粒数量,减小大颗粒尺寸.形成光滑的TiN薄膜表面,细化TiN晶粒,形成结合紧密的膜基结构.
关键词:
TiN薄膜
,
弯曲磁过滤
,
薄膜质量
,
粗大柱状晶
,
细小柱状晶
