刘洋
,
向伟
,
王博宇
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2013.00122
在TEMP-6型强流脉冲离子束装置上,利用能量密度0.1-0.5 J/cm2,脉宽100 ns,能量100 keV的C+和H+混合离子束对TiH2膜进行逐次轰击以研究其在脉冲能量下的稳定性.采用扫描电镜和表面轮廓仪对TiH2膜辐照前后表面形貌进行研究；利用X射线衍射和慢正电子湮没技术对脉冲离子束辐照前后TiH2膜的物相和缺陷结构进行分析.结果表明:0.1-0.3 J/cm2的脉冲束流辐照热-力效应不足以导致膜明显熔化和开裂；0.5 J/cm2的脉冲束流辐照致使膜明显熔化并伴随产生大量的网状裂纹.0.1-0.3 J/cm2的脉冲辐照条件下TiH2的物相结构未发生明显变化,而0.5 J/cm2条件下δ-TiH2开始发生向体心四方(bct)结构的非平衡相变,并且随着辐照次数的继续增加膜内开始析出纯Ti的物相.脉冲束流辐照下的热-力学效应导致膜内缺陷的分布发生显著改变,导致膜的慢正电子Doppler展宽谱的S参数在0.5 J/cm2 5次轰击时达最小,而在0.3 J/cm2 1次轰击时最大.
关键词:
TiH2
,
脉冲离子束
,
表面形貌
,
慢正电子湮没技术
王博宇
,
向伟
,
谈效华
,
戴晶怡
,
程亮
,
秦秀波
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2010.00017
在加速器上,利用不同能量的D+离子束对Ti膜进行连续辐照,利用慢正电子湮没技术和SEM对束流辐照前后Ti膜进行表征.结果表明,D+离子束对Ti膜造成辐照损伤,随D+离子束能量增大,辐照损伤的程度加重;辐照损伤最大值在0.3μm处;D+离子束对Ti膜表面造成不同程度的烧蚀,随D+离子束能量增加,膜表面烧蚀程度增加,膜表面几何不均匀性导致膜表面出现选择性烧蚀.数值计算表明,随能量增加,D+离子在Ti膜中的能量沉积增大,这与SEM观测结果相符.
关键词:
D+
,
Ti膜
,
慢正电子湮没技术
王博宇向伟谈效华戴晶怡程亮秦秀波
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2010.00017
在加速器上, 利用不同能量的D+离子束对Ti膜进行连续辐照, 利用慢正电子湮没技术和SEM对束流辐照前后Ti膜进行表征. 结果表明, D+离子束对Ti膜造成辐照损伤, 随D+离子束能量增大, 辐照损伤的程度加重; 辐照损伤最大值在0.3 μm处; D+离子束对Ti膜表面造成不同程度的烧蚀, 随D+离子束能量增加, 膜表面烧蚀程度增加, 膜表面几何不均匀性导致膜表面出现选择性烧蚀. 数值计算表明, 随能量增加, D+离子在Ti膜中的能量沉积增大, 这与SEM观测结果相符.
关键词:
D+
,
Ti film
,
slow positron annihilation spectroscopy
