周树学
,
徐坤
,
武利民
电镀与涂饰
利用非水合成方法得到的高分散性纳米氧化锆(zrO2)晶粒为原料,经甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(MPS)改性后,与紫外光固化涂料混合,荻得纳米复合涂料.实验发现,纳米复合涂层存在从透明性向不透明性转变的临界ZrO2浓度,此浓度值强烈依赖于有机相的组成和MPS在纳米ZrO2粒子表面的接枝量.在ZrO2临界浓度以下,纳米复合涂层的折射率,显微硬度、热稳定性随着纳米ZrO2用量的增加而提高;但ZrO2浓度高时,由于双键转化率的降低以及有机相-无机相之间界面作用力的减小,其各项性能开始明显恶化.
关键词:
氧化锆
,
合成
,
硅烷偶联荆
,
改姓
,
纳米复合涂料
,
紫外光固化
,
折射率
,
显微硬度
肖健
,
鲁钢
,
冯述娟
,
苏武
,
赵霞
,
徐红
,
刘礼华
表面技术
目的 制备低折射率光固化涂层.方法 以全氟十一烷基丙烯酸酯(FA)、甲基丙烯酸三氟乙酯(TRIFEMA)、四氢呋喃丙烯酸酯GM61P00 (THFA)和聚氨酯丙烯酸酯(PU)为主要组分,考察各组分用量对涂层接触角、吸光度和折射率的影响.结果 在一定的用量范围内,折射率随FA和TRIFEMA用量增加而降低,随THFA和PU用量增加而升高;接触角随FA和TRIFEMA用量增加,先增大,然后保持稳定,随THFA和PU用量增加而减小;吸光度随FA用量增加而增大,随TRIFEMA,THFA和PU用量增加而减小.结论 低折射率光固化涂料的最佳配比为m(FA)∶m(TRIFEMA)∶m(THFA)∶m(PU)=2∶5∶1.25∶1,其涂层折射率为1.387,吸光度为0.0091.
关键词:
光纤涂料
,
折射率
,
吸光度
,
折射率
赖昌
,
夏上达
,
段昌奎
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2007.02.001
为了阐明孤立发光中心自发辐射寿命对环境介质光学常数的依赖关系,从两个典型模型的前提假设出发分析了它们各自的适用条件.并在已有的实腔模型基础上推广出更普适的实腔模型.根据这两个模型的适用条件对文献中已有的实验结果和采用的理论模型分析进行了综合分析,发现现有的实验结果均可以得到圆满的解释.在此基础上,给出发光中心环境介质中发光寿命应该满足的模型的判据:对于稀土离子等孤立离子(其光学极化率可以当作零)作为发光中心时,其发光寿命的局域场效应所满足的模型与被替换的介质离子有关,在被替换的介质离子的极化率很小的情况下,为虚腔(Lorentz)模型,反之则满足实腔模型;当发光中心为纳米粒子(如量子点或含有发光离子的纳米尺度的绝缘体)时,局域场效应满足本文推广了的实腔模型.
关键词:
光谱学
,
自发辐射寿命
,
局域场效应
,
Lorentz模型
,
实腔模型
,
发光中心
,
折射率
郭嘉
,
龚明
,
许小亮
,
张慰萍
,
郭海
,
王燎原
,
陈滢滢
,
刘佩尧
,
刘洪图
功能材料
用正硅酸乙酯(ETOS),乙醇(EtOH),水以及盐酸以一定的比例混合配制溶胶(其中盐酸为催化剂).以普通浮法玻璃为衬底,用浸渍提拉法制备了厚度为100nm左右的SiO2薄膜.对其进行等温和等时退火,用台阶仪测定其厚度变化,给出经验拟合公式.研究了退火对透过率、折射率以及气孔率的影响,并做出比较详细的理论解释.
关键词:
退火
,
sol-gel
,
SiO2薄膜
,
膜厚
,
折射率
王哲哲
,
赵高扬
,
李美莲
,
盛淑月
,
张晓磊
功能材料
有机-无机复合光波导在光通信领域具有重要的应用价值,是目前的研究热点之一.采用溶胶-凝胶法分别制备了膜厚达13μm的光滑平整的PMMA膜和具有紫外感光性的膜厚为1.76μm的SiO2/ZrO2凝胶膜,研究了SiO2/ZrO2凝胶膜的感光性及紫外光照对两种薄膜折射率的影响.在此基础上,以PMMA膜为包层膜,SiO2/ZrO2凝胶膜为芯层膜,实现了光波导的包芯层复合.利用SiO2/ZrO2凝胶膜的感光性,结合紫外掩模技术,制备了条形的有机-无机复合光波导,理论分析表明该复合条形光波导能够实现入射波长为1.31μm,模数为0,1的传输.
关键词:
复合光波导
,
PMMA膜
,
SiO2/ZrO2凝胶膜
,
折射率
陈慰宗
,
付灵丽
,
李绍雄
功能材料
阐述了完全光子禁带的概念.用光学特征矩阵方法,通过数值模拟计算,讨论了一维光子晶体出现完全光子禁带与晶体结构和介质材料的折射率的密切关系.具体计算了用同样两种介质材料组成3种不同结构的一维光子晶体,对于TM及TE电磁模式在不同入射角下的透射率谱,从中找出它们的完全光子禁带,发现3种结构的完全光子禁带的波长范围及宽度各不相同.另外,研究结果表明组成光子晶体的两种材料的折射率差别越大,两种电磁模的禁带越宽,越容易产生完全光子禁带.简单讨论了完全光子禁带出现的条件.
关键词:
一维光子晶体
,
完全光子禁带
,
晶体结构
,
折射率
黄育红
,
介万奇
,
徐凌燕
,
骆娟宁
人工晶体学报
本文采用密度泛函第一性原理的理论计算方法,研究了二元化合物半导体ZnS(Se、Te)的电子能带结构、弹性及光学性质.计算得到的弹性相关的物理量如弹性常数和实验值符合较好.低温下ZnS、ZnSe和ZnTe的德拜温度分别为274.725 K、220.466 K和162.165 K,随阴离子半径的增大,德拜温度呈减小趋势.ZnS、ZnSe和ZnTe的静态介电常数ε1(0)分别为4.71、5.58和7.18.在低能区,介电函数实部随入射光子能量的增加而增加,ZnTe的介电常数值达到最大值(13.78)时对应的光子能量最小(3.61 eV).ZnS、ZnSe和ZnTe的静态折射率分别为2.17、2.36和2.68.在外场作用下,这三者的折射率最大值分别为nZaS(7028 eV)=3.57、nZnSe(6.60 eV) =3.56和nZnTe (3.69 eV)=3.82.通过吸收系数图谱拟合出ZnS(Se、Te)的吸收边分别为3.7953 eV、2.9329 eV和2.48765eV,与实验值非常接近.
关键词:
电子能带结构
,
弹性
,
介电常数
,
折射率
,
吸收边
朱凤
,
赵坤
,
赵夔
,
王莉芳
,
全胜文
膜科学与技术
doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2002.03.006
报道了用反应溅射法制备TiO2膜的实验研究.详细研究了膜的沉积、膜结构及其光学性质,随溅射氧分压的变化.随氧分压由6×10-2 Pa增加到9×10-2 Pa时,晶体结构由金红石变到锐钛矿,氧分压超过9×10-2 Pa时趋向于无定形结构.与膜结构密切相关的折射率n随氧分压的增大由2.44变到1.96,禁带宽度Eg则由大变小,然后再增大的变化(3.41→3.26→3.42).
关键词:
反应溅射
,
TiO2薄膜
,
氧分压
,
折射率
,
禁带宽度
化麒麟
,
杨培志
,
杨雯
,
付蕊
,
邓双
,
彭柳军
人工晶体学报
采用脉冲磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了ZnO∶B薄膜,利用霍尔测试仪和紫外-可见光-近红外分光光度计及逐点无约束最优化法,研究了溅射气压(0.1 ～3 Pa)对ZnO薄膜的光学和电学特性的影响.结果表明:ZnO∶B薄膜在可见光区域内的平均透光率高于80％,近红外波段的透过率及薄膜的电阻率与溅射气压成正比；折射率n随溅射气压降低呈下降趋势,其值介于1.92 ～2.09之间；在较低的溅射气压下(PAr=0.1 Pa)获得的薄膜电阻率最小(3.7×10-3Ω·cm),且对应着小的光学带隙(Eg=3.463 eV).
关键词:
磁控溅射
,
ZnO∶B薄膜
,
溅射气压
,
透过率
,
电阻率
,
折射率
