温佳星
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王美涵
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彭洋
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王新宇
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侯朝霞
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王少洪
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胡小丹
中国材料进展
doi:10.7502/j.issn.1674-3962.2016.01.08
氧化钨薄膜因其特殊的物理化学性质,在智能窗、传感器等诸多新领域具有广泛的应用前景.为使WO3薄膜气致变色特性得到良好的应用,需要制备新型纳米结构氧化钨薄膜.磁控溅射是工业制备WO3薄膜的有效方法之一.掠射角磁控溅射是在传统磁控溅射基础上发展的新型薄膜制备技术,通过将衬底倾斜一定角度,可制备出具有高结晶度、大比表面积、排列规则的纳米结构WO3薄膜.综述了氧分压、溅射功率及热处理等磁控溅射参数对WO3薄膜组成、形貌、晶体结构等的影响,重点介绍了具有独特优势的掠射角磁控溅射技术,及利用其制备得到的纳米结构WO3薄膜在智能窗和气体传感器等方面的应用,提出了掠射角磁控溅射制备纳米结构WO3薄膜存在的问题及未来发展趋势.
关键词:
WO3薄膜
,
磁控溅射
,
掠射角
,
纳米结构
,
气致变色
