张玉
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雷天宇
,
任红
,
孙远洋
,
蔡苇
,
符春林
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.05.016
铁酸铋是目前发现的唯一的室温单相多铁性的材料，其禁带宽度较小，剩余极化强度较大，居里温度较高，在光电器件、自旋电子器件、铁电随机存储器、磁电存储单元等领域有着广阔的应用前景。但铁酸铋薄膜存在漏电流较大、磁电耦合性较弱等问题，制约了在实际中的应用。离子掺杂具有操作方便、易于实现薄膜的微结构及性能调控等优点，因而受到广泛关注。综述了国内外近年来关于铁酸铋薄膜电性能掺杂改性的相关工作，阐述了不同种类的掺杂，包括A位(三价镧系元素与二价碱金属元素)、B位(过渡金属元素等)以及AB位共掺杂，同时根据掺杂对铁酸铋薄膜的漏电流、铁电性以及介电性能的影响，对A位掺杂和B位掺杂中的元素进行了分类，系统总结了各类元素掺杂改性的效果及其机理。最后，提出了铁酸铋薄膜亟待解决的问题。
关键词:
铁酸铋
,
薄膜
,
漏电流
,
铁电性
,
掺杂改良
