严剑飞
,
吴志明
,
太惠玲
,
李娴
,
付嵩琦
功能材料
采用感应耦合等离子体(ICP)干法刻蚀和湿法刻蚀的方法,分别刻蚀有机薄膜晶体管(OTFT)的钛/金薄膜电极.改变刻蚀的工艺条件,研究了不同的刻蚀工艺对OTFT器件性能的影响,并对刻蚀结果进行了比较与分析.结果表明,ICP干法刻蚀不适合用来刻蚀OTFT器件的钛/金电极,而湿法刻蚀工艺可用于刻蚀关键尺寸为5μm及其以上的钛/金电极,其最佳工艺条件分别是n(HF):n(HNO3):n(H2O)=1:1:5和n(KI):n(I2):n(H2O)=4:1:40.
关键词:
刻蚀
,
有机薄膜晶体管
,
钛/金
,
最佳工艺条件
肖凤娟
,
杨惠芳
,
徐华
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2006.02.028
用Triton X-100/正己醇/环己烷/水四元反相微乳液体系制备了纳米羟基磷灰石(HA)粉体,确定了影响制备过程的最佳pH值和煅烧温度等工艺条件.x-射线衍射仪、TEM、SEM对羟基磷灰石的颗粒进行表征和分析表明:颗粒分散均匀,呈杆状,a轴尺寸为20～40nm左右,c轴尺寸为60～80nm,此方法可以有效地控制和改变HAP的分散性和粒度大小.
关键词:
羟基磷灰石
,
微乳液
,
纳米颗粒
,
最佳工艺条件
