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静压触媒法制备的人造金刚石中的晶体缺陷

尹龙卫 , 李木森 , 陈芝 , 孙东升 , 董秀梅 , 郑培智

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2001.01.018

本文首次采用透射电子显微术系统地研究了由FeNi触媒制备的金刚石单晶的微观结构，分析了人造金刚石中存在的晶体缺陷，探讨了这些晶体缺陷形成的原因。研究发现金刚石中存在层错、棱柱位错、位错列和位错网络等晶体缺陷。研究结果表明，金刚石中的晶体缺陷与金刚石的高温高压合成过程密不可分，主要起源于金刚石中大量过饱和的空位和微观杂质所引起的内应力。

关键词: 人造金刚石 , 棱柱位错 , 层错 , 位错网络