李海东
,
吕鹤
,
赖宇晴
高分子材料科学与工程
采用旋涂法制得聚苯乙烯(PS)薄膜样品,在四氢呋喃(THF)溶剂饱和气氛下,通过原位椭偏仪和光学显微镜同步联用的方法观测了2种不同相对分子质量的薄膜体系,当初始薄膜厚度不同时所发生的从溶胀到去润湿的动态全过程.结果表明,在溶剂气氛环境中聚苯乙烯薄膜的动力学变化过程可以从溶胀厚度的变化和去润湿发生的时间及程度反映出来.这个过程的变化不仅与薄膜的初始厚度相关,还受相对分子质量的影响,并且这两方面的作用是相互交叉在一起的.溶胀厚度的变化可以预测出去润湿的可能状况,同样去润湿的过程可以验证溶胀厚度所反映的动力学变化的快慢.证实了联用2种测试手段观测和分析薄膜从溶胀到去润湿全过程的可行性和有效性.
关键词:
原位测量
,
溶剂饱和气氛
,
聚苯乙烯薄膜
,
椭偏仪
,
溶胀
,
去润湿
孙瑶
,
汪洪
航空材料学报
doi:10.11868/j.issn.1005-5053.2015.4.005
采用射频反应溅射制备SiNx薄膜,作为以Ag膜为功能层的D/M/D结构透明导电膜中的电介质膜,并研究射频功率、气压以及N2流量对SiNx薄膜光学常数的影响.结果表明,SiNx薄膜具有非晶态结构,光学常数在300～ 2500nm波长范围内符合正常色散关系.椭偏测试及Cauchy模型拟合结果表明,折射率随功率、气压以及N2流量升高而降低,SiNx光学常数最佳的工艺条件为功率300W,气压0.16Pa,N2与Ar流量比例1∶1,此时薄膜折射率为2.02,消光系数为0,最接近具有化学计量比的Si3N4薄膜的光学常数.按此工艺制备的SiNx膜在优化厚度为44nm的条件下作为20nm厚度Ag膜的电介质膜,当只有表面SiNx膜时,Ag膜透光率由29.17％提高至55.01％,当Ag膜上下均制备SiNx膜时,透光率进一步提高至66.12％.
关键词:
SiNx膜
,
Ag膜
,
折射率
,
椭偏仪
,
透光率
李天璘
,
朱彦旭
,
徐晨
,
高国
,
沈光地
功能材料
由于ITO具有复杂的微观结构和吸收机制,很难准确测量出它的光学常数.采用变入射角光度椭偏仪(VASE)建立了一套简单的拟合模型,成功拟合出ITO光学常数在可见光范围内随波长的变化关系.并在此基础上分析了电子束蒸发法蒸发速率对ITO薄膜光学常数的影响.根据Hall效应测量了ITO在不同蒸发速率下的载流子浓度,分析了ITO光学常数随蒸发速率增加而增加的机理.
关键词:
ITO
,
椭偏仪
,
电子束蒸发法
,
蒸发速率
许世鹏
,
李玉宏
,
陈维铅
,
林莉
,
李江
,
薛仰全
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.02.019
目的：联合使用光谱型椭偏仪( SE)和分光光度计,精确测定超薄四面体非晶碳薄膜( ta-C)的光学常数。方法由于该薄膜的厚度对折射率、消光系数有很大的影响,仅采用椭偏参数拟合,难以准确得到该薄膜的光学常数,椭偏法测定的未知参数数量大于方程数,椭偏方程无唯一解。因此,加入透过率与椭偏参数同时进行拟合(以下简称SE+T法),以简单、快速、准确地得到该薄膜的光学常数。结果薄膜具有典型的非晶碳膜特征,SE和SE+T两种拟合方法得到的光学常数具有明显的差异,消光系数k在可见以及红外区最大差值可达0.020,紫外区最大的偏差约为0.005；折射率n在500 nm 波长以上最大差值为0.04,在紫外光区和可见光区两种方法得到的n趋于一致。联用时的拟合结果具有更好的唯一性,而且拟合得到的光学常数变得平滑。结论椭偏与分光光度计联用适合精确测定测量范围内的超薄四面体非晶薄膜的光学常数。
关键词:
ta-C
,
薄膜
,
光学常数
,
椭偏仪
,
分光光度计
,
色散模型
