贾福超
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白亦真
,
屈芳
,
孙剑
,
赵纪军
,
姜辛
新型炭材料
doi:10.1016/S1872-5805(09)60039-1
采用热丝化学气相沉积法,改变工作气压和偏流,在硅基片上沉积了高掺硼金刚石膜.利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射仪对沉积的金刚石膜表面形貌和结构进行表征.结果显示:当气体压强从3kPa降低到1. 5kPa时,金刚石膜有较平的表面形貌和和较好的晶形,薄膜的晶体性质得到良好的改善.但是继续降气体压强,从1.5kPa到 0.5kPa时,却呈现出相反的趋势.固定气体压强(1. 5kPa),改变偏流,结果表明:适当的偏流(3A)可以改善掺硼金刚石的质量,偏流较高会导致薄膜中非金刚石相增多.
关键词:
高掺硼金刚石膜
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气体压强
,
偏流
,
热灯丝化学气相沉积
,
扫描电镜
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X射线衍射仪
,
拉曼光谱
