张帆
,
周明
,
吴春霞
,
张伟
,
陈谦
材料导报
利用化学气相沉积法(CVD)在镀有Au(10nm)膜的石英衬底上通过控制O2流量制备不同形貌的纳米结构ZnO,通过X射线衍射(XRD)和变温光致发光谱研究晶体缺陷对ZnO表面润湿性能的影响.结果表明,除表面粗糙度之外,高密度的缺陷对样品表面润湿性能也有很重要的影响,尤其是氧空位缺陷对吸收羟基有利,能...
关键词:
氧化锌
,
氧分压
,
光致发光
,
润湿性
冯程程
,
周明
,
吴春霞
,
马伟伟
,
李刚
,
蔡兰
人工晶体学报
本文利用化学气相沉积(CVD)法在镀有Au(10 nm)膜的单晶Si(100)上制备了ZnO薄膜,并研究了不同的氧分压对ZnO形貌的影响.借助扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对样品的形貌、结晶质量和晶体生长取向进行了表征.结果表明:当O2分压较小的时候,O2只能与...
关键词:
氧化锌
,
化学气相沉积法
,
氧分压
,
二次生长
曹国栋
,
冷永祥
,
景凤娟
,
孙鸿
,
黄楠
功能材料
采用真空磁过滤电弧离子镀技术在单晶硅(100)和载玻片表面沉积Ti-O薄膜,研究了不同氧分压(0.08、0.13、0.2Pa)对薄膜结构及血液相容性的影响.研究结果表明,随着氧分压的提高,Ti-O薄膜相结构从三氧化二钛转变为金红石结构二氧化钛.扫描电子显微镜观察表明,所制备薄膜表面结构致密,与基体结...
关键词:
Ti-O薄膜
,
氧分压
,
真空磁过滤电弧离子镀
,
血液相容性
朱凤
,
赵坤
,
赵夔
,
王莉芳
,
全胜文
膜科学与技术
doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2002.03.006
报道了用反应溅射法制备TiO2膜的实验研究.详细研究了膜的沉积、膜结构及其光学性质,随溅射氧分压的变化.随氧分压由6×10-2 Pa增加到9×10-2 Pa时,晶体结构由金红石变到锐钛矿,氧分压超过9×10-2 Pa时趋向于无定形结构.与膜结构密切相关的折射率n随氧分压的增大由2.44变到1.96,...
关键词:
反应溅射
,
TiO2薄膜
,
氧分压
,
折射率
,
禁带宽度
高昶
,
赵晓辉
,
夏钰东
,
张飞
,
陶伯万
低温物理学报
金属有机物沉积法(MOD)制备YBa2Cu3O7-x(YBCO)涂层导体是最具有商业前景的方法之一.本文使用环烷酸铜代替三氟乙酸铜,降低了前驱液中大约50%的氟含量.然后在带有缓冲层(Y2O3/YSZ/CeO2)的Ni-5at.%W基带上采用MOD法制备了YBCO薄膜并系统研究了高温热处理过程中气体...
关键词:
MOD
,
YBCO薄膜
,
气体流速
,
氧分压
尹洪基
,
徐延庆
,
吕世坪
,
王金相
耐火材料
doi:10.3969/j.issn.1001-1935.2010.04.003
以Cr2O3微粉为主要原料,TiO2微粉为烧结助剂,聚乙烯醇为结合剂,经制浆、喷雾造粒、机压和等静压二次成型后,分别在空气(氧分压为2.1×104Pa)、工业氮气(氧分压为1×103Pa)、纯氮气(氧分压为10 Pa)和高纯氮气(氧分压为0.1 Pa)中以及埋炭(氧分压为2.3×10-12Pa)条件...
关键词:
氧化铬材料
,
氧分压
,
氧化钛
,
烧结
刘化然
,
盛英卓
,
宋宇
,
杨伟峰
,
李金荣
,
黄鹏
,
冯博学
功能材料
采用射频溅射法在SnO2衬底上生长了NiOx薄膜,制备的薄膜是非理想化学计量的微晶薄膜.研究了氧分压对NiOx薄膜的溅射速率、表面形貌和光学电学特性的影响.研究结果显示,O2分压在1∶10时,可得到最快的沉积速率;低的氧分压沉积的薄膜表面比较疏松;随着氧含量的增加,方块电阻呈上升趋势,当氧分压达到一...
关键词:
NiOx
,
射频溅射
,
电致变色
,
氧分压
