黄银松
,
章俞之
,
胡行方
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2002.05.013
采用直流反应溅射工艺制备了氧化铌(Nb2O5)薄膜,用XRD、AFM、AES和循环伏安等测试手段分析并研究了薄膜的组成、结构、表面形貌和电致变色性能间的关系.结果表明:在基底加热条件下可获得晶态TT-Nb2O5薄膜,沉积气压较高时的薄膜具有沿(100)面定向生长、结构相对较为疏松的柱状结构,这种薄膜具有良好的电化学稳定性,锂离子注入/抽出可逆性好,并具有灰色变色特性,在可见区(波长600 nm)的透过率调制幅度为35%.
关键词:
微观结构
,
表面形貌
,
氧化铌薄膜
,
直流反应溅射
,
电致变色
黄银松
,
章俞之
,
胡行方
无机材料学报
采用射频反应溅射法成功地制备了非晶态氧化铌薄膜,研究了它们的电致变色性能．这些薄膜在漂白态透明无色,而着色态则为灰褐色．循环伏安测试结果表明该薄膜具有良好的稳定性和很好的锂离子注入/抽出性能．５５０ｎｍ处的着色效率为１６．６８ｃｍ２/Ｃ,在可见光区透过率调制幅度为２０%~３０%．结合Ｘ光电子能谱(ＸＰＳ)分析可以认为氧化铌薄膜的电致变色现象是由于锂离子和电子的共同注入与抽出,导致薄膜中的铌离子发生ＮｂＶ和ＮｂＩＶ间的可逆氧化、还原反应引起的．
关键词:
氧化铌薄膜
,
RF sputtering
,
electrochromism
