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开孔氧化铝薄膜/铝合金基体热屈曲变形和应力分析

弓满锋 , 乔生儒 , 梅芳 , 袁月清

材料导报

假设薄膜和基体界面处于理想结合状态,基于应变协调理论,采用有限元软件(ANSYS 8.0)分析了不同膜基比(hc/hs)和开孔对氧化铝薄膜/铝合金基体系统热屈曲变形、热应力的影响.结果表明,当矩形薄板发生热屈曲时,曲率和热应力均随膜基比非线性变化.随着膜基比的增加,曲率不断减小,而薄膜和基体中的热应力表现出不同的变化趋势,基体中的热应力随膜基比的增加而增加,薄膜中的热应力随膜基比的增加而减小.当hc/hs<0.005时,曲率受膜基比的影响非常大且曲线较陡;当hc/hs>0.005时,曲率随膜基比的增加而缓慢减小.开孔能在一定程度上缓解系统的热屈曲变形,但是这种缓解程度相对较小.无孔时系统中的热残余应力在面内基本上都是均匀分布的,而开孔时系统中的热残余应力分布不再均匀,特别是在小孔附近产生了严重的应力集中现象,膜基比越小则应力集中现象越严重.

关键词: 氧化铝薄膜 , 铝合金 , 热屈曲 , 变形 , 应力 , 有限元

退火处理对MOCVD氧化铝薄膜成分、晶型及微观结构的影响

何迪 , 李帅 , 刘晓鹏 , 张超 , 王树茂 , 蒋利军

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2012.05.015

以乙酰丙酮铝为金属有机源,采用MOCVD在硅基底上制备了氧化铝薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、扫描电镜(SEM)等方法研究了不同退火温度对氧化铝薄膜成分、晶型和显微结构的影响.结果表明:350℃沉积的氧化铝薄膜由氧化铝和氧化铝水合物构成,退火处理可使氧化铝水合物转化为氧化铝.此外,退火处理还可以促使氧化铝由非晶向亚稳相和α-Al2O3转变,其中700℃退火后的氧化铝薄膜为非晶氧化铝,900℃退火的氧化铝薄膜由非晶和γ-Al2O3构成,1100℃退火后的氧化铝薄膜由γ-,θ-和α-Al2O3构成.700℃退火后的氧化铝薄膜形貌均匀致密,与退火前的薄膜相比没有明显变化;当退火温度≥900℃时氧化铝薄膜发生开裂,分析认为退火过程中产生的热应力以及氧化铝薄膜晶型转变带来的体积收缩是薄膜开裂的关键原因.

关键词: 氧化铝薄膜 , MOCVD , 退火 , 晶型

反应溅射制备的a-A12O3薄膜中的时效过程

赵登涛 , 朱炎 , 狄国庆

功能材料

用反应溅射方法制备了非晶氧化铝薄膜;以Al/a-Al2O3/Al电容器为载体,研究了此种电容器的电容量,随样品放置时间的衰减过程及其影响因素,结论如下:(1)同一样品,高频下测得的电容随样品放置时间而变小的趋势相对于低频值要缓慢.(2)其它条件相同时,低的工作气压下形成的样品,其电容量不易随时间而改变.(3)真空中的低温热处理有助于改善时效过程.(4)时效的机制可能是样品中亚稳态的缺陷逐渐消失.这些缺陷跟缺氧和吸水没有必然联系,也不太可能是A12O3/Al的界面缺陷;它们的消失跟电老化也无必然联系.机制之一可能是氧过量引起的铝离子过配位的逐渐消失.

关键词: 非晶 , 氧化铝薄膜 , 电容 , 时效过程 , 反应溅射

不同电解温度下阳极氧化铝薄膜纳米孔的自组织过程

巩运兰 , 杨云 , 王为 , 郭鹤桐

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.05.001

研究温度对阳极氧化铝薄膜纳米孔自组织过程的影响.使用环境扫描电镜(ESEM)研究了铝试样在硫酸、草酸、磷酸溶液中,于不同电解温度下阳极氧化形成的氧化铝薄膜形貌.通过分析阳极氧化时电流密度与时间关系曲线,研究了温度对阳极氧化铝薄膜纳米孔自组织过程的影响.提出降低电解温度能够缩短纳米孔自组织过程的时间,是由于降低电解温度增大了纳米孔内表面的表面张力.并且提出在不同的电解质溶液中,电解温度对纳米孔自组织过程的影响程度不同,电解温度对纳米孔自组织过程的影响以在硫酸溶液中最敏感,草酸次之,在磷酸溶液中的影响最小.

关键词: 阳极氧化 , 氧化铝薄膜 , 温度 , 自组织过程 , 纳米孔

反应溅射制备非晶Al2O3薄膜的介电特性

赵登涛 , 狄国庆 , 朱炎

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2000.03.020

在氧气、氩气的混合气氛中,利用反应射频磁控溅射制备了厚度在100到10纳米的非晶氧化铝薄膜.通过Al-Al2O3-Al电容器研究了此非晶薄膜的介电性质.

关键词: 反应射频磁控溅射 , 介电性质 , 非晶 , 氧化铝薄膜

溶胶-凝胶法制备氧化铝绝缘薄膜及其电性能研究

单威 , 姚曼文 , 胡保付 , 杨鹏飞 , 姚熹

功能材料

以乙二醇乙醚为溶剂,异丙醇铝为前驱物,乙酰丙酮为螯合剂,采用溶胶-凝胶法和旋转涂覆工艺,在不同衬底上制备了氧化铝薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)和金相显微镜等手段对薄膜的微观结构和表面形貌进行了表征.结果表明,溶胶-凝胶法制得的薄膜为无定形结构,表面均匀、致密、无裂纹.通过对薄膜电流密度与电场和时间(J-E和J-t)曲线的测量,对薄膜的电学性能进行了研究.薄膜击穿场强约为2.0~3.0MV/cm,在电场强度为0.5MV/cm时,漏电流密度约为9.0×10-6 A/cm2.

关键词: 氧化铝薄膜 , 溶胶-凝胶法 , 无定形 , J-E曲线

直流磁过滤电弧源沉积氧化铝薄膜的研究

弥谦 , 王昆 , 刘哲

表面技术

采用直流磁过滤电弧源技术,在K9玻璃基底上制备氧化铝薄膜,研究了沉积时的氧气分量和阴极靶电流对薄膜折射率、沉积速率、消光系数和表面粗糙度的影响.结果表明:薄膜折射率、沉积速率和消光系数均随着氧气分量的增加而降低,随着阴极靶电流的升高而增加;薄膜表面粗糙度则随氧气分量或阴极靶电流的增加,呈先减小、后增大的趋势.分析认为,主要是因为随着氧气分量和阴极靶电流的变化,基底表面铝原子和氧气的比例发生了改变,进而影响到薄膜的相关性能.

关键词: 电弧源 , 磁过滤 , 氧化铝薄膜 , 氧气分量 , 阴极靶电流

等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究

雷明凯 , 袁力江 , 张仲麟

无机材料学报

采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2O3体材料相当.

关键词: 氧化铝薄膜 , plasma source , magnetron sputtering , refractive index

氧化铝薄膜表面羰基钼物种的可逆再生

姜志全 , 赵红 , 谭大力 , 翟润生 , 包信和

催化学报

通过Mo(CO)6的热分解制备了Al2O3薄膜负载的金属钼模型催化剂,并采用热脱附谱(TDS)和X射线光电子能谱(XPS)原位研究了CO在金属态Mo/Al2O3模型催化剂表面的化学吸附.结果表明,在低温下CO可与Al2O3表面的金属钼纳米粒子发生多重配位形成类似于羰基钼的物种.CO在Mo/Al2O3模型催化剂表面的吸附导致Mo 3d XPS峰向高结合能方向位移,所生成的羰基钼物种表现为TDS谱中在240 K处有脱附峰.负载的金属钼模型表面与体相金属钼的化学性质完全不同,表现出明显的粒子尺寸效应.

关键词: 热脱附谱 , X射线光电子能谱 , 羰基钼 , 氧化铝薄膜 , 可逆再生

等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究

雷明凯 , 袁力江 , 张仲麟

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.04.042

采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600°C沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2Os体材料相当.

关键词: 氧化铝薄膜 , 等离子体源 , 磁控溅射沉积 , 折射率

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