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退火温度和ZnO缓冲层对氨化Ga2O3/ZnO薄膜合成GaN纳米结构的影响

王书运 , 庄惠照 , 高海永

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2006.04.025

利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO缓冲层,再溅射Ga2O3薄膜,然后在开管炉中不同温度下通氨气进行氨化反应生长GaN薄膜.分析结果表明,利用该方法制备的GaN薄膜是六角纤锌矿多晶结构,并且随着氨化温度的升高,GaN薄膜向棒状和线状形态转变.同时分析了ZnO缓冲层对形成GaN纳米结构的影响.

关键词: 射频磁控溅射 , GaN薄膜 , ZnO缓冲层 , 氨化反应

新型3,6-二芳基吡唑并[1,5-a]嘧啶类化合物的合成

刘举 , 敬春艳 , 王洋 , 滕鹏飞 , 徐嘉瞳 , 徐利锋

应用化学 doi:10.3724/SP.J.1095.2013.20574

以2-甲基-6-苯基-3-(2,4-二氯苯基)-5,7-二羟基吡唑并[1,5-a]嘧啶为原料,经三氯氧磷氯代得到2-甲基-6-苯基-3-(2,4-二氯苯基)-5,7-二氯吡唑并[1,5-a]嘧啶,氯代物再与胺类化合物经取代反应氨化得到12个未见文献报道的7-取代-3,6-二芳基取代吡唑并[1,5-a]嘧啶类衍生物.目标化合物结构经红外光谱、核磁共振氢谱、元素分析及单晶X射线衍射法表征.

关键词: 吡唑并[1,5-a]嘧啶 , 氯代反应 , 氨化反应 , 晶体结构

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