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伏兵 , 诸葛飞 , 刘志敏 , 罗浩 , 梁凌燕 , 高俊华 , 曹鸿涛
材料科学与工程学报
本文研究了氩等离子体处理对ZnO薄膜阻变效应的影响,发现等离子体处理可以使薄膜表面平整,并且增加薄膜中的缺陷浓度.以等离子体处理后的ZnO薄膜作为介质层,在Pt/ZnO/Pt三明治结构中观察到无电形成过程的阻变效应.本文研究表明,氩等离子体处理是消除氧化物阻变效应电形成过程的有效手段.
关键词: 阻变 , ZnO薄膜 , 氩等离子体处理
