罗蕴玲
,
孙维连
,
杨钰瑛
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2005.05.011
应用中频非平衡磁控反应溅射技术沉积氮化锆薄膜,通过对Zr-N薄膜颜色测量,绘制了氮分压为横坐标的L*,a*,b*值的影响曲线和Zr-N薄膜随氮分压变化的反射率曲线.发现随真空炉内氮分压的增大,Zr-N薄膜的相结构发生变化,薄膜颜色由银白色→浅黄色→金黄色→深红色的颜色变化规律.比较Zr-N薄膜,TiN薄膜,黄金和金合金颜色,氮分压为50%时,与纯金的色差最小.结果表明,镀膜过程中控制氩气和氮气流量的比值(Ar/N2)可以调节Zr-N膜的颜色.氮分压有比较宽的可调节范围获得金黄色.
关键词:
氮化锆薄膜
,
颜色调控
,
磁控溅射
,
中频电源
刘春敬
,
袁军平
,
黄宇亨
电镀与涂饰
采用多弧离子镀膜技术在925银合金表面沉积浅黄色氮化锆薄膜,研究了镀覆时间和基底粗糙度对膜层颜色及耐蚀性的影响.结果表明,银合金基底上镀ZrN膜时,成色迅速,镀覆1～2 min时膜层颜色已接近2N-18黄色;随镀覆时间延长,膜层的a*基本不变,b*逐渐减小;镀覆条件相同时,镜面基底膜层的a*略小于砂面,耐腐蚀性能优于后者;ZrN膜层的抗变色性能远远优于银合金基底和18KY电镀层.因此,银合金基底镀覆1～2 min所得ZrN薄膜可很好地满足首饰的颜色和耐蚀性要求.
关键词:
银合金
,
多弧离子镀膜
,
氮化锆薄膜
,
颜色
,
耐蚀性
黄佳木
,
覃丽禄
,
董思勤
功能材料
采用射频反应磁控溅射工艺,以纯Zr为靶材,在WO3/ITO/Glass基片上采用不同工艺参数沉积ZrN_x薄膜,用紫外-可见分光光度计、循环伏安法、X射线衍射仪、扫描电镜等研究了ZrN_x薄膜的离子导电性能.研究结果表明,所制备的ZrN_x薄膜为非晶态,ZrN_x/WO_3/ITO/Glass复合膜的光学调节范围最大达57%以上,在离子传导过程中表现出良好的离子导电性能.
关键词:
射频反应磁控溅射
,
氮化锆薄膜
,
离子导体
