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氮流量对TaN薄膜微结构及性能的影响

王超杰 , 蒋洪川 , 张万里 , 向阳 , 司旭

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.01.017

采用反应直流磁控溅射法在Al_2O_3陶瓷基片上制备TaN薄膜,研究了氮流量(N_2/(N_2+ Ar))对TaN薄膜微结构及性能的影响.结果表明,随氮流量的增大,TaN薄膜的氮含量、电阻率、方阻以及TCR的绝对值逐渐增大,而沉积速率逐渐降低.当N_2流量较低(2%~4%)时,TaN薄膜中主要含有电...

关键词: TaN薄膜 , TCR , 磁控溅射 , 氮流量

氮流量对贫铀表面磁控溅射CrNx薄膜结构与性能的影响

朱生发 , 吴艳萍 , 刘天伟 , 杨锁龙 , 唐凯 , 魏强

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00603

金属铀的化学性质十分活泼,极易发生氧化腐蚀.为改善基体的抗腐蚀性能,采用非平衡磁控溅射技术在金属铀表面制备了不同氮含量的CrNx薄膜.采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射技术(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、动电位极化曲线,分别研究了薄膜形貌、物相结构、表面元素化学价态及抗腐蚀性能.结果表...

关键词: 贫铀 , 非平衡磁控溅射 , CrNx薄膜 , 氮流量 , 腐蚀性能

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