余祖孝
,
颜杰
,
金永中
,
黄建丽
,
陈弟红
腐蚀与防护
doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2007.02.007
为了改善化学镀Ni-Co-P合金工艺存在的镀速慢、镀层腐蚀性能差等问题,研究了镀液组分、pH值、温度、转速、表面活性剂、稳定剂对化学镀Ni-Co-P合金镀层沉积速度、腐蚀速度、腐蚀电位、镀层厚度、点蚀率、表面形貌、硬度和镀层结合力的影响,得出最佳镀液配方和工艺: CoSO4 14 g/L;NiSO4 9 g/L;NaH2PO2 18 g/L;Na3C6H5O7 50 g/L;(NH4)2SO4 60 g/L;KIO3 8 mg/L;十二烷基苯磺酸钠50 mg/L;pH值9.0;温度80 ℃;转速60 r/min.
关键词:
化学镀Ni-Co-P
,
工艺
,
沉积速度
,
腐蚀性能
,
点蚀率
,
腐蚀电位
,
显微硬度
梁平
,
张云霞
材料保护
为进一步提高镍磷(Ni-P)化学镀层的沉积速度和镀层的耐蚀性能,将稀土氯化铈(CeCl<,3>)加入到镀液中.通过扫描电镜考察了CeCl<,3>对Ni-P合金层表面形貌和成分的影响,采用交流阻抗研究了CeCl<,3>对Ni-P镀层在3.5%NaCl溶液中耐蚀行为的影响.结果表明:镀液中加入适量的CeCl<,3>可提高Ni-P镀层的沉积速度,减少镀层表面缺陷数量,提高镀层的致密性,改善镀层的耐蚀性.
关键词:
化学镀
,
Ni-P镀层
,
CeCl3
,
沉积速度
,
镀层形貌
,
成分
,
耐蚀性
温青
,
邓正平
,
高中平
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.11.012
借鉴国外先进技术,开发出一种无氰碱性镀铜工艺.讨论了该工艺的镀液组分及操作条件的影响.对镀层外观、沉积速度及镀液分散能力与覆盖能力进行了测试,并与国外某知名品牌的工艺进行了比较.结果表明,这两种工艺性能相当.采用该工艺对3种不同基材电镀无氰碱铜,后镀镍,通过弯曲试验和热震试验检测镀层的结合力,结果发现镀层与基材结合力良好.提出了该工艺镀液的维护与注意事项.该工艺操作简单,控制容易,实际应用效果良好,适合钢铁件、黄铜、锌合金压铸件、铝合金浸锌层的预镀.
关键词:
镀铜
,
无氰
,
碱性
,
沉积速度
,
分散能力
,
覆盖能力
,
结合力
余祖孝
,
郝世雄
,
孙亚丽
,
梁鹏飞
腐蚀与防护
为了改善化学镀Ni-Mo-P工艺中沉积速度慢、镀层硬度低、耐腐蚀性差等问题,试验研究了镀液组分、pH值、络合剂、表面活性剂、稳定剂对化学镀Ni-Mo-P合金镀层硬度、沉积速度、耐蚀性、孔隙率的影响,得出最佳的镀液配方和工艺参数:2.4 g/L Na2MoO4,26.2 g/L NiSO4·6H2O,10.6 g/L NaH2PO2·H2O,1 mg/L KI,30 g/L柠檬酸三钠,9 g/L乳酸,50 mg/L十二烷基苯磺酸钠,pH8.5,温度90℃.本结果为化学镀Ni-Mo-P合金工艺提供了依据,较有实用价值.
关键词:
化学镀Ni-Mo-P
,
pH值
,
络合剂
,
表面活性剂
,
稳定剂
,
沉积速度
,
耐蚀性
武晓阳
,
刘定富
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2012.04.002
以沉积速度和镀层中磷含量为评价指标,通过实验分别考察了硫酸镍质量浓度、硫酸镍与次磷酸钠的摩尔比、pH、温度及EDTA-2Na对化学镀镍-磷合金的影响.实验结果表明,当硫酸镍质量浓度为20 ～ 30 g/L、n(硫酸镍):n(次磷酸钠)为0.25 ～0.40、络合剂总质量浓度为35 g/L(其中EDTA-2Na为2.5 ～ 10.0 g/L),θ为86 ～ 90℃、pH为4.6 ～5.0时,沉积速度为11.87 ～ 14.00μm/h,镀层中w(磷)为10.2％～12.0％；镀层X-射线衍射图谱显示出非晶态结构所具有的典型“馒头峰”.
关键词:
化学镀镍
,
沉积速度
,
镀层磷质量分数
,
配位作用
张玉峰
,
吴晓明
,
凌锋
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.03.017
为了解Ni-纳米SiC体系的刷镀特性,针对Ni刷镀液、纳米SiC和分散剂组成的刷镀液体系的沉降过程进行了研究.试验表明:当分散剂浓度大于2.5%时,可以充分分散纳米SiC颗粒,在沉降过程中,不易形成大的颗粒聚集体,颗粒的最终沉积密度增大,沉降粉体体积减小;在同样条件下,随着环境温度的升高,造成连续相黏度下降及扩散速度加快,使沉降速度升高;镀液中纳米SiC含量≤3g/L时,在分散剂作用下纳米SiC分布均匀稳定,沉积速度减慢.
关键词:
纳米SiC
,
分散剂
,
沉积速度
,
稳定性
马壮
,
陶莹
,
李海成
,
李纯
,
李智超
材料导报
在42CrMo钢基体上制备了Ni-W-P化学镀层,研究了pH值对镀液稳定性和镀层沉积速度的影响,并对镀层进行了扫描电镜(SEM)观察、能谱分析(EDS)、X射线衍射(XRD)分析及显微硬度、耐磨性和耐蚀性测试.结果表明,当镀液pH值为8.0时,镀液稳定性最好,镀层沉积速度较快.镀层由Ni、Ni5 P2、NiW2 P3和NiW组成,具有非晶态结构,表面均匀且致密.随着镀液pH值升高,镀层硬度、耐磨性和耐蚀性均呈先升高后降低的趋势.
关键词:
pH值
,
Ni-W-P化学镀层
,
镀液稳定性
,
沉积速度
,
耐磨性
,
耐蚀性
张慧
,
刘锦云
,
杜春平
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.03.019
为了研究Ni-P-SiC-PTFE化学复合镀工艺,探讨氨基乙酸、丁二酸、乳酸、表面活性剂对镀层沉积速度和显微硬度的影响,通过正交试验方法,得到了最佳工艺参数,结果表明各参数分别是:表面活性剂为复合表面活性剂,丁二酸浓度为15g/L,乳酸浓度为20mL/L,氨基乙酸浓度为5g/L时,镀层较为理想.
关键词:
Ni-P-SiC-PTFE
,
化学复合镀
,
正交试验
,
沉积速度
,
显微硬度
甘雪萍
,
仵亚婷
,
刘磊
,
沈彬
,
胡文彬
功能材料
研究了采用次磷酸钠作还原剂在涤纶织物上化学镀铜.分别采用X射线衍射 (XRD) 、扫描电镜(SEM)和能谱议(EDAX)分析化学镀铜层的晶体结构、表面形貌和镀层成分.分别用四探针法(ASTM F 390) 和双轴传输线法(ASTM D 4935-99) 测量导电涤纶织物的表面电阻和电磁屏蔽效能.化学镀铜溶液的成分和操作条件对化学镀铜的沉积速度、镀层成分、结构和表面形貌具有重大的影响.化学镀铜的沉积速度随着温度、pH值和镍离子浓度的升高而加快,而且沉速度过快会导致镀层疏松.镍离子浓度的增加还导致镀层镍含量的增加从而使表面电阻明显增大.加入适量的亚铁氰化钾可以降低沉积速度,改善镀层结构和表面形貌,降低织物表面电阻.当Ni2+和K4Fe(CN)6浓度分别为0.0038mol/L和2×10-6时,可以获得最佳的化学镀铜层;当织物上铜镀层的重量为40g/m2时,在100MHz～20GHz频率范围内电磁屏蔽效能均可达到85dB以上.
关键词:
化学镀铜
,
涤纶织物
,
次磷酸钠
,
沉积速度
,
表面电阻
牛振江
,
郁平
,
王费华
,
李则林
,
吴廷华
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2003.05.006
研究了柠檬酸浓度对乙酸盐缓冲体系Ni-P合金化学镀沉积速度、镀层含磷量及其耐蚀性与结构的影响,并对镀层在镀态下和经热处理后的耐蚀性与结构进行了比较.结果表明,随柠檬酸浓度的增加,沉积速度先增加后降低,而镀层中磷含量则先降低后增加;镀态时高磷合金为非晶态结构且具有较好的耐蚀性,中磷合金则为非晶+微晶结构,耐蚀性较低,而所有镀层经350 ℃热处理1 h后,结构都转变为晶态,且耐蚀性明显提高.
关键词:
化学镀Ni-P合金
,
柠檬酸
,
沉积速度
,
耐蚀性
,
晶态
