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块体纳米晶工业纯铁在盐酸溶液中的电化学腐蚀行为

沈长斌 , 王胜刚 , 龙康 , 杨怀玉 , 王福会

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2006.03.026

通过静态失重试验,动电位极化曲线,电化学阻抗谱(EIS)实验,研究了块体纳米工业纯铁(BNIPI)和粗晶工业纯铁棒(CGPIR)在室温1mol/l盐酸溶液中的腐蚀行为.结果表明,BNIPI与CGPIR相比,开路腐蚀电位Ecorr正向移动114mV,平均腐蚀速度和腐蚀电流Icorr变小,极化电阻Rp增大为1.58倍.BNIPI抗盐酸的腐蚀能力与CGPIR相比,不但没有下降,相反有所增强.使用扫描电子显微镜(SEM)对静态腐蚀失重试样的形貌进行了观察,显示BNIPI上几乎没有点蚀坑出现.

关键词: 腐蚀 , 块体纳米工业纯铁 , 深度轧制 , 盐酸溶液

块体纳米晶工业纯铁在0.4mol/LHCl溶液中的电化学腐蚀行为

孙淼 , 张艳 , 王胜刚

腐蚀学报(英文)

借助动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)测量,研究块体纳米晶工业纯铁(BNII)和粗晶工业纯铁(CPII)在室温0.4mol/LHCl溶液中的电化学腐蚀行为;用扫描电子显微镜(SEM)观察腐蚀后的表面形貌.结果表明,与CPII相比,BNII的自腐蚀电位Ecorr正向移动43mV,自腐蚀电流Icorr由68.37pA·cm^-2减小为29.55pA·cm^-2;电荷转移电阻Rt由427.0Q·cm^2增大到890.1Q·cm^-2两种材料发生的点蚀呈不同的形态:BNII的点蚀Ykd,而浅,腐蚀深度比较均匀,而CPII的腐蚀表面形成的点蚀孔深且孔径较大.与CPII相比,BNII在HCl溶液中的耐腐蚀性能明显提高.

关键词: 块体纳米晶工业纯铁(BNII) , 深度轧制 , 盐酸溶液 , 腐蚀

块体纳米晶工业纯铁在0.4 mol/LHCl溶液中的电化学腐蚀行为

孙淼 , 张艳 , 王胜刚

腐蚀学报(英文)

借助动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)测量, 研究块体纳米晶工业纯铁(BNII) 和粗晶工业纯铁(CPII)在室温0.4 mol/L HCl溶液中的电化学腐蚀行为; 用扫描电子显微镜(SEM)观察腐蚀后的表面形貌. 结果表明, 与CPII相比, BNII的自腐蚀电位Ecorr正向移动43 mV, 自腐蚀电流Icorr由68.37 μA•cm-2减小为29.55 μA•cm-2; 电荷转移电阻Rt由427.0 Ω•cm2增大到890.1 Ω•cm2. 两种材料发生的点蚀呈不同的形态: BNII的点蚀孔小而浅, 腐蚀深度比较均匀, 而CPII的腐蚀表面形成的点蚀孔深且孔径较大. 与CPII相比, BNII在HCl溶液中的耐腐蚀性能明显提高.

关键词: 块体纳米晶工业纯铁(BNII) , severe rolling , hydrochloric acid solution , corrosion

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