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宫峰飞 , 王业宁 , 沈惠敏
材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2001.04.010
用磁控溅射法制备了MiTi非晶薄膜.薄膜无形状记忆效应.研究了经不同晶化热处理后的形状记忆效应,获得的最佳晶化热处理条件为500～700℃范围内晶化0.5h.
关键词: NiTi形状记忆薄膜 , 溅射制备 , 晶化热处理
潘孝军 , 张振兴 , 贾璐 , 李晖 , 谢二庆
无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324x.2007.04.031
利用直流磁控溅射方法制备了GaN薄膜.X射线衍射及Raman光谱结果表明薄膜样品为非晶结构;傅立叶红外光谱表明薄膜样品的主要吸收峰为Ga-N键的伸缩振动;光致发光测试得到了360nm处的紫外发光谱;测量薄膜样品的紫外-可见谱,并利用Tauc公式计算得到样品的光学带隙为3.74eV,这与光致发光谱得到的结果是一致的.
关键词: 非晶氮化镓 , 溅射制备 , 光学性能
