欢迎登录材料期刊网
王大海 , 杨柏梁 , 杨柏梁 , 吴渊 , 吴渊 , 刘传珍
液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2000.04.004
利用磁控溅射的方法制备了Cr、 Ta、 Al、 Mo、 MoW等金属薄膜，采用XRD、 SEM、四探针法等分析手段分析了薄膜的性能。讨论了衬底温度、反应气压、溅射功率、气体流量等因素对薄膜质量的影响，得到了制作TFT器件中优质金属电极的工艺参数。
关键词: 磁控溅射 , TFT器件 , 溅射速率 , 金属薄膜
黄士勇 , 王德苗 , 任高潮 , 陈抗生
材料研究学报
用磁控反应溅射方法制备ITO膜时,溅射速率不断变化,并且等离子体也发出较强的具有较宽光谱的光.报导了用调整特征光谱强度来控制溅射速率的新方法,并用以控制ITO膜的沉积过程
关键词: 光谱法 , null , null , null
