储洪强
,
孙达
,
蒋林华
材料导报
研究了电沉积法修复混凝土裂缝中溶液浓度及温度的影响,测定了电沉积过程中的试件质量增加率、表面覆盖率、裂缝愈合率及裂缝填充深度.结果表明,表面覆盖率、裂缝愈合率随电沉积溶液浓度的增加而降低,而裂缝填充深度随浓度的增加而增大,质量增加率随浓度的变化无明显规律;表面覆盖率随电沉积溶液温度的升高而减小,裂缝愈合率随温度的升高而增大,质量增加率随温度变化的规律不明显,温度对裂缝填充深度的影响较小.
关键词:
电沉积法
,
裂缝修复
,
溶液浓度
,
溶液温度
胡飞
,
陈镜昌
,
吴坚强
,
江毅
,
王群
功能材料
在酸性溶液中在透明导电玻璃(ITO)基体上电化学沉积Cu2O薄膜.通过实验研究了电沉积工艺条件对电沉积Cu2O薄膜的影响.X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对薄膜的微观结构和表面形貌进行了分析.结果表明,水浴温度较高时,酸性镀液中Ac-HAc共轭缓冲体系的反应速率提高,可以有效抑制铜单质的生长;镀液中铜离子的浓度会影响工作电极表面铜离子的浓度梯度,使得Cu2O在不同镀液下形成不同方向的择优取向;在双电极条件下可以提高电沉积Cu2O薄膜的电流密度至4mA/cm2,远远高于文献报导在三电极体系下低于1mA/cm2的工作电流密度.生成的氧化亚铜薄膜具有多孔结构,禁带宽度Eg约为2.4eV.
关键词:
氧化亚铜
,
电沉积
,
溶液温度
,
电流密度
陈志钢
,
唐一文
,
张丽莎
,
张新
,
贾志勇
,
余颖
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.04.025
以透明导电玻璃(TCO)、纳米TiO2/TCO、CNTs/TCO、铜片分别为工作电极,用简单铜盐通过阴极还原制备了Gu2O薄膜,并研究了溶液温度和衬底对电化学沉积Gu2O薄膜形貌的影响.结果表明:以TCO和铜片为衬底时,由于表面微粒为微米级,不管溶液温度高低,只能得到微米级的Cu2O薄膜;以纳米TiO2/TCO和CNTs/TCO为衬底,池温高于30℃只能得到微米级的Cu2O薄膜,而池温降到0℃时,都可得到纳米Cu2O.
关键词:
氧化亚铜
,
电沉积
,
溶液温度
,
衬底
