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杨春 , 卢文壮 , 左敦稳 , 徐锋 , 任卫涛
人工晶体学报
本文设计了一套用于HFCVD系统中轴承内圈NCD涂层制备的电极装置,同时在热交换过程的分析基础上对该系统进行了热流耦合分析.对进气参数进行优化后,衬底温度场及气体流场分布均匀.在数值分析的基础上,在氮化硅陶瓷内圈上成功制备了NCD膜.
关键词: NCD , 陶瓷轴承 , 涂层 , 热流耦合分析 , 有限元