王梅丰
,
杜楠
,
赵晴
,
卢雄威
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2006.09.015
射流电沉积是近年来发展起来的一种电沉积新工艺,具有普通电镀所不具备的一些优点.利用二维移动平台系统进行射流电沉积,研究了瓦特镍镀液的喷射速度、温度以及阴阳极间距等因素对射流电沉积的影响.研究结果表明,当镀液喷射速度为0.3 m/s,槽电压为20 V,阴阳极之间距离为17 mm时,采用该系统可在金属试样上快速获得预先设定的图形镀层,镀层分布均匀,与基体的结合力良好.
关键词:
射流电沉积
,
瓦特镍电镀
,
局部电镀
