陈荣发
,
左敦稳
,
李多生
,
相炳坤
,
赵礼刚
,
王珉
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.10.017
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜.实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳定性,其程度随甲烷浓度的不同而变化.从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论,认为直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度是生长不稳定性的根本原因.实验结果表明,在沉积金刚石厚膜时,为了稳定地获得高质量的厚膜,甲烷浓度不宜过高.
关键词:
金刚石厚膜
,
生长稳定性
,
甲烷浓度
,
直流等离子喷射
,
化学汽相沉积
陈荣发
,
左敦稳
,
李多生
,
相炳坤
,
赵礼刚
,
王珉
金属学报
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的无裂纹自支撑金刚石厚膜。实验中观察到在金刚石厚膜生长过程中出现了形貌不稳定性，其程度随甲烷浓度的不同而变化。从理论和实验两个方面对这种不稳定性进行了讨论, 认为直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度是生长不稳定性的根本原因。 实验结果表明，在沉积金刚石厚膜时，为了稳定地获得高质量的厚膜，甲烷浓度不宜过高。
关键词:
金刚石厚膜
,
null
,
null
