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Cr-Si-Ni电阻薄膜在模拟环境中的电学稳定性及腐蚀行为

张玉勤 , 蒋业华 , 周荣

功能材料

研究了磁控溅射法制备的Cr-Si-Ni电阻薄膜在不同模拟环境介质溶液中的电学稳定性及腐蚀行为.结果表明,500℃热处理后纳米晶结构的Cr-Si-Ni电阻薄膜在25℃的模拟海洋、工业、酸性及碱性环境介质溶液中浸泡240h后,薄膜试样的相对电阻变化值(ΔR/R)分别为0.27%、0.08%、0.96%、3.31%.说明薄膜在上述4种环境中电学稳定性和耐腐蚀性能从高到低依次为:工业环境、海洋环境、酸性环境、碱性环境.薄膜在4种溶液中都能发生自钝化现象而在膜层表面形成SiO2保护层,形成的钝化膜在模拟的工业环境中最稳定.

关键词: 电阻薄膜 , 模拟环境 , 电学稳定性 , 腐蚀行为

磁控溅射Zr掺杂ITO薄膜在3种模拟腐蚀环境中的电学稳定性和耐腐蚀性

朱葛俊 , 张波 , 徐良

材料保护

过去,鲜有Zr掺杂氧化铟锡(ITO)薄膜电学稳定性及耐蚀性的研究报道。采用磁控溅射法制备了ITO薄膜和Zr掺杂ITO薄膜(ITO:Zr),研究了2种薄膜的微观结构、光电性能及其在3种模拟腐蚀环境(酸性、海洋、工业)腐蚀液中的电学稳定性及耐腐蚀性。结果表明:Zr的掺杂导致了ITO薄膜择优取向向(400)晶面转变,ITO:Zr薄膜比ITO薄膜具有更好的光电性能;2种薄膜在3种环境介质中都能发生自钝化,在工业环境中具有最好的耐腐蚀性能;ITO:Zr薄膜比ITO薄膜具有更好的电学稳定性和耐腐蚀性。

关键词: 磁控溅射 , ITO薄膜 , Zr掺杂 , 电学稳定性 , 耐腐蚀性 , 腐蚀环境

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