张志明
,
王俭秋
,
韩恩厚
,
柯伟
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00300
利用AFM,SEM,TEM,EDS及XPS分析了电解抛光处理690TT合金在含B和Li,充H2的高温高压水溶液中经不同时间浸泡后表面生长氧化膜的微观结构.结果表明,从短期氧化到长期氧化,氧化膜表面形貌变化不明显;氧化膜主要由具有尖晶石结构的氧化物和单质Ni构成.浸泡720,1440和2160 h后,氧化膜均由外层、中间层和内层构成:外层是分散的富含Ni和Fe的尖晶石结构的大颗粒氧化物;中间层是疏松的富含Ni的尖晶石结构的针状氧化物;内层是连续致密的富Cr氧化物.仅氧化膜中的内层氧化物能对基体起到良好的保护作用.电解抛光处理不利于690TT合金表面保护性氧化膜的快速生长.浸泡至2160 h后,氧化膜依然缺乏保护性,内层氧化膜的平均生长速率并未显著降低.
关键词:
690TT合金
,
电解抛光处理
,
浸泡时间
,
氧化膜
,
保护性结构
张志明王俭秋韩恩厚柯伟
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00300
利用AFM, SEM, TEM, EDS及XPS分析了电解抛光处理690TT合金在含B和Li, 充 H2的高温高压水溶液中经不同时间浸泡后表面生长氧化膜的微观结构. 结果表明, 从短期氧化到长期氧化, 氧化膜表面形貌变化不明显; 氧化膜主要由具有尖晶石结构的氧化物和单质Ni构成. 浸泡720, 1440和2160 h后, 氧化膜均由外层、中间层和内层构成: 外层是分散的富含Ni和Fe的尖晶石结构的大颗粒氧化物; 中间层是疏松的富含Ni的尖晶石结构的针状氧化物; 内层是连续致密的富Cr氧化物. 仅氧化膜中的内层氧化物能对基体起到良好的保护作用. 电解抛光处理不利于690TT合金表面保护性氧化膜的快速生长. 浸泡至2160 h后, 氧化膜依然缺乏保护性, 内层氧化膜的平均生长速率并未显著降低.
关键词:
690TT合金
,
eletropolishing treatment
,
immersion time
,
oxide film
,
protective structure
