Xing′ao LI
,
Zuli LIU
,
Kailun YAO
材料科学技术（英文）
Copper nitride thin film was deposited on glass substrates by reactive DC (direct current) magnetron sputtering at a 0.5 Pa N2 partial pressure and different substrate temperatures. The as-prepared film, characterized with X-Ray diffraction, atomic force microscopy, and X-ray photoelectron spectrosc...
关键词:
DC magnetron sputtering
,
氮化铜薄膜
,
电阻率
,
显微硬度
任凤章
,
王晋
,
马战红
,
苏娟华
,
贾淑果
材料热处理学报
对工业纯Cu和纯Fe冷拔变形,研究大变形下性能与组织的变化.研究表明,在大变形的情况下,与退火态相比其抗拉强度、硬度和电阻率均有提高.纯Cu的抗拉强度、显微硬度和电阻率在截面真应变4.621时分别提高80.5%、42.5%和8.00%;纯Fe的抗拉强度、显微硬度和电阻率在截面真应变3.544时分别提...
关键词:
Cu
,
Fe
,
大变形
,
抗拉强度
,
电阻率
,
原位
,
复合材料
陆峰
,
徐成海
,
闻立时
,
曹洪涛
,
裴志亮
,
孙超
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.07.002
为了对比研究不同透明衬底上ZnO:Al(ZAO)薄膜的性能,采用直流反应溅射法制备薄膜,并对其作EDS、XRD和电学测试分析.结果表明:所制备的ZAO薄膜具有典型的ZnO晶体结构;沉积在玻璃基片上的ZAO薄膜,Al,O含量高于沉积在透明聚酯塑料基片上的,而Zn的含量则相反;在两种衬底上获得的ZAO薄...
关键词:
ZAO薄膜
,
衬底
,
直流磁控溅射
,
性能
,
XRD衍射分析
,
电阻率
,
透射率
赵慎强
,
洪若瑜
,
王益明
,
罗志
,
严彪
材料导报
通过高速砂磨法制备了以丙烯酸树脂为基底、炭黑为导电填料的导电涂料.分别用X射线衍射和热重分析-差热扫描考察了炭黑/丙烯酸树脂复合涂层的结晶度和热力学性能.重点研究了炭黑添加量、偶联剂、分散程度等因素对涂层导电率的影响.结果表明,炭黑添加量在3％时,以异丙基三(十二烷基苯磺酰基)钛酸酯作为偶联剂,机械...
关键词:
抗静电涂料
,
导电炭黑
,
偶联剂
,
电阻率
钟雨航
,
朱世富
,
赵北君
,
任锐
,
何知宇
,
叶林森
,
温才
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.05.008
采用相同温度、刚玉粉、抛光时间和不同方式配制成抛光液,对4组CdSe晶片进行抛光.研究结果表明,采用化学机械抛光能较大地提高晶片的抛光质量.通过用不同pH值的抛光液对CdSe晶片进行抛光,发现用NaOH将抛光液pH值调整为8的一组CdSe晶片,获得了最好的抛光效果,电阻率较高,达到3.2×108Ω·...
关键词:
硒化镉
,
机械化学抛光
,
抛光液
,
金相显微镜
,
电阻率
张晓红
,
方双全
,
强亮生
稀有金属材料与工程
选取二茂铁为掺杂剂,采用溶胶-凝胶法制备了掺杂PbTiO3粉体.基于TG-DTA分析结果给出了掺杂PbTiO3干凝胶的热处理条件和PbTiO3陶瓷的烧结条件.并讨论了影响掺杂PbTiO3凝胶的不同因素,确定了制备凝胶的最佳工艺条件.利用XRD和SEM对掺杂PbTiO3陶瓷的结构参数进行了分析,并探讨...
关键词:
钛酸铅陶瓷
,
二茂铁
,
XRD
,
SEM
,
电阻率
郅晓
,
朱涛
,
任洋
,
李颖
,
赵高扬
功能材料
利用溶胶-凝胶法在玻璃基板上制备了Al/Zn原子掺杂比例为0～0.25的掺铝氧化锌(ZnO∶Al或AZO)薄膜,随后分别将其在空气,氧气和氮气3种不同气氛中退火处理,研究了薄膜的光学、电学与结构方面的性质.X射线衍射分析表明AZO薄膜是具有c轴择优取向的六方纤锌矿结构多晶体;通过紫外-可见光分光计测...
关键词:
掺铝氧化锌
,
溶胶-凝胶
,
电阻率
,
光学带隙
