欢迎登录材料期刊网
吕反修 , 黄天斌 , 唐伟忠 , 宋建华 , 佟玉梅
材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2001.01.010
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的金刚石自支撑膜。观察到在金刚石厚膜生长过程中出现形貌不稳定性，并往往导致膜层组织疏松，强度降低。本文从理论和实验观察两个方面进行了讨论。生长不稳定性在任何高速沉积CVD过程中都可能发生，而直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度以及高温等离子体射流对衬底表面的冲击，使之比其它CVD金刚石膜沉积工艺具有更大的不稳定生长倾向。基于实验研究结果，建议在较低的气体压力下沉积，以减小金刚石厚膜生长的不稳定性。
关键词: 生长不稳定性 , 金刚石厚膜 , 化学气相沉积(CVD) , 直流电弧等离子体喷射
刘敬明 , 吕反修
材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2007.02.020
研究了气体循环模式下的直流等离子体喷射CVD自支撑高质量金刚石厚膜高温氧化行为.结果表明,金刚石膜在大约650℃开始氧化,氧化速度随着温度的升高而快速增加;高温氧化将导致金刚石膜的力学、光学和热学性能的下降,多晶金刚石膜晶界的优先氧化损伤是造成其综合性能下降的主要原因.高质量的自支撑金刚石膜不适合在空气中700℃以上长时间工作,但在800℃以下短时间(3min内)工作是安全的.
关键词: 氧化 , 高质量自支撑金刚石膜 , 直流电弧等离子体喷射
