曾鹏
,
胡社军
,
谢光荣
,
黄拿灿
,
吴起白
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2001.03.014
研究了脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响.结果表明脉冲偏压幅值在500-1700V,脉宽比在1/25～2/5的范围内,沉积温度低于250℃时膜层组织主要由Ti2N和TiN相构成,随脉冲偏压幅值和脉宽比的增大,晶面的择尤沉积由Ti2N(200)向(002)转变,柱状晶生长程度减弱.膜层具有较高的显微硬度和耐磨性,但在过高的脉冲偏压和脉宽比的沉积条件下,膜层的性能有下降的趋势.
关键词:
脉冲偏压
,
真空电弧沉积
,
TiN薄膜
,
组织性能
余东海
,
曾鹏
,
胡社军
,
汝强
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.04.002
利用等离子辅助真空电弧沉积技术分别在高速钢片和单晶硅片制备了Ti(C,N)涂层,通过X-射线衍射和扫描电镜研究了不同离子加速电压对单晶硅片上涂层结构和组织形貌的影响,并测定了高速钢片上涂层的显微硬度,同时进行了耐磨性实验.结果表明:涂层主要由TiN和Ti(C,N)组成;随着离子束加速电压的增大,涂层的沉积速度增大,Ti(C,N)的衍射峰不断宽化,晶格尺寸发生变化,但其表面形貌不受影响;当离子束加速电压为1 500 V时,涂层有较高的耐磨性和显微硬度;当离子束加速电压为2 500 V时,涂层的耐磨性和显微硬度都有所下降.
关键词:
离子束
,
真空电弧沉积
,
Ti(C,N)涂层
曾鹏
,
胡社军
,
谢光荣
,
黄拿灿
,
吴起白
机械工程材料
doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2001.11.011
用Ti/Mo、Ti/W、Ti/FM复合靶和真空电弧沉积技术制备了三种多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究.结果表明,多元复合靶与多元膜层之间存在着成分离析效应,组元Mo、W和Fe具有负的成分离析,而组元Cr和A1与靶材的成分相当.多元膜层致密,其结构形式为(Ti,Me)2N和(Ti,Me)N.测试表明按多元多层膜设计的膜层Ti/TixN/(TiyMe1-y)N/(Ti,Me)xN具有较高硬度和耐磨性能,经600℃×100h的氧化,多元多层膜有良好的抗氧化性能,其中以含W的膜层的抗氧化性能最佳.
关键词:
多元多层膜
,
真空电弧沉积
,
组织与性能
钱天才
,
杨喜昆
,
马丽丽
功能材料
采用电弧离子镀膜方法,以高纯石墨为碳离子源在PMMA树脂义齿表面沉积类金刚石膜.应用xps谱和Raman谱对膜层的结构进行了理论分析,对镀膜样品进行了抗磨性能实验、病理实验和临床实验.结果表明:为了提高样品的膜基结合强度,必须在DLC膜与基材之间增镀一层钛氧化物作为过渡层,必须严格控制工作电压、工作室的真空度和气氛配比.
关键词:
真空电弧沉积
,
DCJ膜
,
PMMA树脂义齿
