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真空磁过滤电弧离子镀沉积Ti-O薄膜及其血液相容性

曹国栋 , 冷永祥 , 景凤娟 , 孙鸿 , 黄楠

功能材料

采用真空磁过滤电弧离子镀技术在单晶硅(100)和载玻片表面沉积Ti-O薄膜,研究了不同氧分压(0.08、0.13、0.2Pa)对薄膜结构及血液相容性的影响.研究结果表明,随着氧分压的提高,Ti-O薄膜相结构从三氧化二钛转变为金红石结构二氧化钛.扫描电子显微镜观察表明,所制备薄膜表面结构致密,与基体结合紧密.血小板粘附实验结果表明,0.13Pa下制备的薄膜血液相容性优异,优于临床应用的热解碳材料.

关键词: Ti-O薄膜 , 氧分压 , 真空磁过滤电弧离子镀 , 血液相容性

真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究

王秀兰 , 刘文言 , 刘洪源 , 张泰华

宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2002.06.014

采用真空磁过滤电弧离子镀方法,在GT35基体上沉积类金刚石膜.通过对清洗工艺及弧电流、工件所加负偏压、沉积温度等参数的研究,制定出了合理的工艺路线,并对这种膜层进行了X-射线光电子谱(XPS)分析,利用干涉仪、纳米硬度计对膜层的粗糙度、纳米硬度作了进一步检测.结果表明,采用此种方法制备的类金刚石膜层,SP3含量约为40.1%;组织致密,无大的颗粒;镀膜后的粗糙度可以达到0.015 μm;纳米硬度约为55 GPa.并将膜层与TiN膜层组成摩擦副,进行了耐磨性试验,结果表明膜层的耐磨性较好.

关键词: 真空磁过滤电弧离子镀 , 类金刚石 , 耐磨性

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