丁照崇
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何金江
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罗俊锋
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李勇军
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熊晓东
稀有金属材料与工程
以高纯W-Si合金粉(＞99.995％)为原料,采用真空热压烧结工艺制备高纯W-Si合金靶材.研究烧结温度、热压压力、保温时间等工艺条件对靶材密度、微观组织性能的影响.结果表明,烧结温度在1350～1380℃,热压压力25～30MPa,保温时间1.5～2 h,可制备出相对密度99％以上、平均晶粒尺寸100 μm以内的高性能W-Si合金靶材.
关键词:
高纯W-Si合金
,
磁控溅射靶材
,
真空热压烧结
丁照崇
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陈明
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刘书芹
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王欣平
,
吕保国
稀有金属材料与工程
以高纯W粉、Si粉为原料,在真空环境下进行高温预合金化处理,制备了高纯W-Si合金粉.通过优化,确定了最佳预合金化温度为1000℃;合金粉中,单质W相消失,生成WSi2相.粉末粒度呈单峰分布,d50为21.037 μm,d90为50.905 μm,纯度可达到99.995％以上.采用合金粉烧结的磁控溅射靶材的微观组织、成分均匀分布,解决了W-Si靶材成分难以均匀的难题.
关键词:
高纯W-Si
,
预合金化
,
磁控溅射靶材
