袁征
,
戴一帆
,
解旭辉
,
周林
,
关朝亮
,
冯殊瑞
人工晶体学报
磁流变抛光技术是实现KDP晶体超精密加工的新方法,但磁流变液中的铁粉容易嵌入质软的KDP晶体表面.本文提出了利用基于低能离子溅射原理的离子束抛光技术去除KDP表面嵌入的铁粉.利用红外拉曼光谱和白光干涉仪分别分析了低能离子束抛光前后KDP晶体表面物质结构变化和表面粗糙度的变化；结果显示,低能离子束溅射不改变KDP晶体表面的组成结构,并改善了KDP晶体表面质量,因此离子束抛光可用于KDP晶体的加工；利用飞行时间二次离子质谱分析技术分别对单点金刚石车削、磁流变抛光和低能离子束抛光后的KDP晶体表面进行元素分析,结果显示低能离子束抛光可有效去除磁流变抛光在KDP晶体表面嵌入的铁粉.
关键词:
KDP晶体
,
磁流变抛光
,
离子束抛光
,
铁粉去除
张峰
,
潘守甫
,
张学军
,
张忠玉
,
郑立功
,
程灏波
,
牛海燕
功能材料
磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术.首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理.然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究.在外加磁场强度高于318kA/m时,磁流变抛光液的剪切应力大于20kPa,该应力足以完成磁流变抛光.最后给出一个磁流变抛光的实例,证明了磁流变抛光液的实用性.实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为0.2μm/s.
关键词:
磁流变抛光
,
磁流变抛光液
,
剪切应力
,
抛光区
,
材料去除率
程灏波
,
王英伟
,
冯之敬
功能材料
利用永磁流变抛光技术制造超光滑光学元件是一项极具前景的超精密制造技术.本文在明确磁流变抛光机理的基础上,主要对一种新颖的油基磁流变抛光液进行了配制,并对其主要性能如流变性、稳定性进行了试验研究,所获得的油基磁流变液的初始粘度达到0.5 Pa·s,流变性具有较大范围内的稳定性.对油基磁流变液抛光性能的试验研究证明其具有良好的抛光特性,抛光23min后工件表面粗糙度降低到0.6739nm.
关键词:
磁流变抛光
,
磁偶极子
,
粗糙度
