张峰
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潘守甫
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张学军
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张忠玉
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郑立功
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程灏波
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牛海燕
功能材料
磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术.首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理.然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究.在外加磁场强度高于318kA/m时,磁流变抛光液的剪切应力大于20kPa,该应力足以完成磁流变抛光.最后给出一个磁流变抛光的实例,证明了磁流变抛光液的实用性.实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为0.2μm/s.
关键词:
磁流变抛光
,
磁流变抛光液
,
剪切应力
,
抛光区
,
材料去除率
李晓媛
,
魏齐龙
,
高伟
,
王超
,
汤光平
,
何建国
稀土
doi:10.16533/J.CNKI.15-1099/TF.201605007
磁流变抛光液中双相颗粒的聚集分散行为关系到其流变性能及微观去除过程,本文通过对磁流变抛光液流变性能和微观结构的研究,分析了不同粒径的氧化铈抛光粉在抛光液中的聚集分散行为.实验表明,在相同工艺条件下,加入了不同粒径氧化铈抛光粉的磁流变抛光液的剪切屈服应力和零场粘度最大差距可达12倍与8倍.分析认为,粒径越小的氧化铈颗粒对磁流变抛光液的影响越明显:氧化铈粒径小,颗粒易团聚而增大粘度,同时也减小了抛光液中颗粒平均粒径和间距,增大了剪切作用.
关键词:
磁流变抛光液
,
氧化铈
,
微观结构
,
流变性能
