刘思用
,
林立
,
杨武保
,
孙惠峰
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.03.014
利用高纯氮气和铝,采用离子反应镀的方法,在石英玻璃衬底上成功制得AlN薄膜.正交设计优化结果表明:AlN薄膜最大沉积速率达到0.81μm/min,其相应的工艺参数为:蒸发电压225V,轰击电压70V,轰击时N2气压为1.5999Pa.X-射线衍射、原子力显微镜、近红外光谱、拉曼光谱对薄膜进行了分析,证明了AlN薄膜的存在.
关键词:
氮化铝
,
薄膜
,
离子反应镀
,
工艺优化
