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离子束辅助磁控溅射制备类石墨碳膜的结构与性能研究

赵蕾 , 付永辉 , 刘登益 , 朱晓东 , 何家文

无机材料学报

采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC), 用TEM和XRD考察其组成相, 用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构, 并测定了不同气体和离子能
量辅助轰击下制备的几组薄膜的沉积速率、成分、硬度和粗糙度等. 结果表明: 采用IBMSD制备的GLC是一种以sp2键为主的非晶硬质碳膜. CH4辅助轰击较Ar有利于提高沉积速率.
辅助轰击能量的增大使薄膜表面粗糙度先减小后增大, 硬度的变化一定程度上与粗糙度相关.

关键词: 离子束辅助沉积(IBAD) , magnetron sputtering , amorphous carbon coating , structure

制备高温超导涂层导体的技术路线分析

冯峰 , 史锴 , 瞿体明 , 魏俊俊 , 吴蔚 , 张燕怡 , 肖绍铸 , 韩征和

中国材料进展

钇系高温超导涂层导体具备优异的超导性能,有广泛的应用前景,因此成为国际上的研究热点之一.近年来涂层导体长带的研制在日本和美国等国家取得了巨大进展,目前主要的技术路线为离子束辅助沉积(IBAD)和轧制辅助双轴织构基带(RABiTS)2种,其中IBAD技术路线的使用更为广泛而且产品性能处于领先地位.基于对上述2种技术路线进行的对比分析研究,介绍了目前世界范围内主要研究单位的进展情况,并对这2种技术路线在涂层导体结构的3个基本部分(金属基带、过渡层、超导层)的制备情况进行了具体对比分析.

关键词: 高温超导 , 涂层导体 , 离子束辅助沉积(IBAD) , 轧制辅助双轴织构基带(RABiTS)

不同能量离子束辅助沉积对形成氮化钛薄膜性能的影响

李立 , 赵杰 , 李德军 , 顾汉卿

功能材料

用不同能量离子束辅助沉积方法在医用不锈钢317L和Si(100)基底上沉积TiN薄膜.通过X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的结构特征;测试了薄膜与基底的附着力和耐磨性;用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在Hank's模拟体液中的耐腐蚀性能;最后采用成纤维细胞、骨髓细胞体外培养试验考察了生长于不同薄膜表面的细胞粘附、增殖、展布情况及细胞的形态.研究结果表明:用高、低能氮离子兼用的IBAD方法制备的TiN多晶薄膜比只用高能或低能沉积的薄膜具有更强的附着力和耐磨性,在Hank's模拟体液中显示出更强的抗腐蚀能力,并在细胞体外培养中显示出良好的细胞相容性.

关键词: 离子束辅助沉积(IBAD) , 氮化钛(TiN) , 附着力 , 耐腐蚀 , 细胞体外培养

离子轰击能量对ZrN/TiAlN纳米多层膜性能的影响

曹猛 , 李强 , 邓湘云 , 李德军

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2007.06.013

使用超高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)制备一系列具有纳米调制周期的ZrN/TiAlN多层膜,研究了离子辅助轰击对薄膜性能的影响.结果表明:离子辅助轰击使大部分ZrN/TiAlN多层膜的纳米硬度和弹性模量值高于两种个体材料硬度的平均值;离子的轰击和薄膜表面原子与轰击离子之间的动量传输提高了薄膜的致密度;当轰击能量为200 eV时,多层膜的硬度最高(30.6 GPa),弹性模量、表面粗糙度和摩擦系数等也明显改善.

关键词: 无机非金属材料 , 离子束辅助沉积(IBAD) , ZrN/TiAlN纳米多层膜 , 硬度 , 辅助轰击能量

离子束辅助磁控溅射制备类石墨碳膜的结构与性能研究

赵蕾 , 付永辉 , 刘登益 , 朱晓东 , 何家文

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2005.01.028

采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC),用TEM和XRD考察其组成相,用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构,并测定了不同气体和离子能量辅助轰击下制备的几组薄膜的沉积速率、成分、硬度和粗糙度等.结果表明:采用IBMSD制备的GLC是一种以sp2键为主的非晶硬质碳膜.CH4辅助轰击较Ar有利于提高沉积速率.辅助轰击能量的增大使薄膜表面粗糙度先减小后增大,硬度的变化一定程度上与粗糙度相关.

关键词: 离子束辅助沉积(IBAD) , 磁控溅射 , 类石墨碳膜 , 结构

IBAD薄膜与基体界面的显微结构

陶琨 , 何向军 , 江海 , 范玉殿 , 李恒德

材料研究学报

采用中能离子束辅助沉积(IBAD)技术,在单晶Al2O3(0001)基片上沉积Mo膜,在GaAS(001)基片12合成Fe16N2薄膜用HREM等研究了Mo膜-Al2O3(0001)、Fe16N2膜-GaAs(001)界面的显微结构结果表明:Mo膜的晶粒呈细小性状或纤维状,晶粒平均尺寸约8nm,Fe16N2薄膜为等轴晶,晶粒平均尺寸约为10nm,在Mo膜-Al2O3(0001)界面及Fe16N2薄膜-GaAs(001)界面处存在厚10~15nm的由基片原子及膜层原子组成的非晶过渡层在过渡层与薄膜界面处存在台阶,增加了薄膜的形核点,薄膜的致密度较高。

关键词: 离子束辅助沉积(IBAD) , null , null

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